| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·多铁材料简介 | 第10-14页 |
| ·多铁材料的定义 | 第11页 |
| ·磁电耦合效应 | 第11-12页 |
| ·磁电多铁材料的分类 | 第12-14页 |
| ·单相多铁材料 | 第14-17页 |
| ·TbMnO_3的结构 | 第15页 |
| ·TbMnO_3的性能 | 第15-17页 |
| ·Jahn-Teller效应与双交换机制 | 第17-19页 |
| ·Jahn-Teller效应 | 第17-18页 |
| ·双交换机制 | 第18-19页 |
| ·单相多铁材料异质结构研究进展 | 第19页 |
| ·研究目的和意义 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-25页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第25-33页 |
| ·固相烧结 | 第25页 |
| ·薄膜生长原理 | 第25-27页 |
| ·薄膜形核简介 | 第25-26页 |
| ·成膜的三种模式 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射技术 | 第27-30页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第27-28页 |
| ·溅射过程 | 第28-29页 |
| ·本文所用磁控溅射设备介绍 | 第29-30页 |
| ·X射线衍射技术 | 第30-31页 |
| ·X射线能量色散谱（EDS） | 第31页 |
| ·电学性能测量 | 第31页 |
| 参考文献 | 第31-33页 |
| 第三章 TbMnO_3/Nb-SrTiO_3异质结构的制备与表征 | 第33-48页 |
| ·概述 | 第33页 |
| ·TbMnO_3薄膜的制备 | 第33-41页 |
| ·TbMnO_3靶材的制备方法 | 第33-34页 |
| ·磁控溅射法制备TbMnO_3薄膜 | 第34-35页 |
| ·工艺参数对TbMnO_3薄膜的影响 | 第35-41页 |
| ·TbMnO_3/Nb-SrTiO_3异质结构的制备与表征 | 第41-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 第四章 TbFeO_3/Nb-SrTiO_3异质结构的制备与表征 | 第48-60页 |
| ·概述 | 第48-49页 |
| ·TbFeO_3薄膜的制备 | 第49-51页 |
| ·TbFeO_3靶材的制备方法 | 第49-50页 |
| ·TbFeO_3薄膜的表征 | 第50-51页 |
| ·TbFeO_3/Nb-SrTiO_3异质结的制备与表征 | 第51-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 第五章 TbFeO_3/n-Si异质结构的制备与表征 | 第60-65页 |
| ·概述 | 第60页 |
| ·TbFeO_3/n-Si异质结的制备 | 第60-61页 |
| ·TbFeO_3/n-Si异质结的表征 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第六章 结论及展望 | 第65-67页 |
| ·结论 | 第65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 硕士期间完成的成果 | 第68页 |
