多孔硅制备法及其发光性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·多孔硅的概述 | 第9-11页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第11-13页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第13-16页 |
| ·多孔硅的光致发光 | 第16-19页 |
| ·多孔硅的PL发光稳定性处理 | 第19-20页 |
| ·多孔硅的应用前景 | 第20-21页 |
| ·本论文的研究内容 | 第21-22页 |
| 2. 电化学腐蚀法制备多孔硅 | 第22-26页 |
| ·实验原理 | 第22页 |
| ·制备方法 | 第22-24页 |
| ·实验装置 | 第22-23页 |
| ·实验步骤 | 第23-24页 |
| ·测试方法 | 第24-26页 |
| ·光致发光的检测 | 第24-25页 |
| ·样品形貌的观测 | 第25-26页 |
| 3. 实验结果及分析 | 第26-33页 |
| ·腐蚀时间对样品形貌及PL特性的影响 | 第26-28页 |
| ·腐蚀电流密度对样品形貌及PL特性的影响 | 第28-30页 |
| ·腐蚀液浓度对样品形貌及PL特性的影响 | 第30-33页 |
| 4. 多孔硅的稳定性处理 | 第33-42页 |
| ·实验原理及步骤 | 第33-35页 |
| ·实验结果分析 | 第35-39页 |
| ·阴极还原处理对多孔硅PL特性的影响 | 第35-37页 |
| ·强酸处理对多孔硅PL特性的影响 | 第37-38页 |
| ·阴极还原-强酸对多孔硅PL特性的影响 | 第38-39页 |
| ·多孔硅PL发光衰减特性的研究 | 第39-42页 |
| 5 总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 附录A | 第46-47页 |
| 附录B | 第47-49页 |
| 个人简历 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
