| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-30页 |
| ·均相钯催化剂 | 第11-13页 |
| ·钯盐催化剂 | 第11页 |
| ·钯络合物 | 第11-13页 |
| ·钯盐加膦配体类催化剂 | 第12页 |
| ·钯盐加N-杂环卡宾配体类催化剂 | 第12页 |
| ·环钯类化合物 | 第12-13页 |
| ·非均相钯催化剂 | 第13-17页 |
| ·负载在金属氧化物上的钯催化剂 | 第14页 |
| ·Pd/C催化剂 | 第14-15页 |
| ·负载在有机高分子材料上的钯催化剂 | 第15-16页 |
| ·负载在铝硅酸盐的钯催化剂 | 第16页 |
| ·负载在硅(二氧化硅)上的钯催化剂 | 第16-17页 |
| ·均匀排列的非均相钯催化剂的制备 | 第17-24页 |
| ·Langmuir-Blodgett(LB)膜 | 第18-20页 |
| ·LB膜的制备 | 第18-19页 |
| ·LB膜的特点 | 第19页 |
| ·LB膜的应用 | 第19-20页 |
| ·自组装膜 | 第20-24页 |
| ·自组装膜的研究进展 | 第20-21页 |
| ·自组装膜的制备 | 第21页 |
| ·自组装膜的特点 | 第21-22页 |
| ·自组装膜的应用 | 第22-24页 |
| ·课题的提出 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 系列环钯亚胺自组装膜的制备及表征 | 第30-50页 |
| ·制备环钯化合物的常用方法 | 第30-31页 |
| ·C-H键的活化 | 第30页 |
| ·配体的交换 | 第30页 |
| ·氧化加成 | 第30-31页 |
| ·金属的交换 | 第31页 |
| ·不饱和键的加成 | 第31页 |
| ·表面活性氢引发自组装 | 第31-37页 |
| ·合成路线 | 第31-32页 |
| ·制备方法 | 第32页 |
| ·表征方法 | 第32-35页 |
| ·用水接触角对制备过程各步骤的表征 | 第32-33页 |
| ·自组装膜制备过程中各个步骤的表面形貌分析 | 第33-35页 |
| ·用XPS对制备的单层自组装膜表征 | 第35页 |
| ·自组装膜催化剂催化Suzuki偶联反应 | 第35-37页 |
| ·表面结构修饰自组装 | 第37-40页 |
| ·芳香类自组装膜合成路线 | 第37-38页 |
| ·芳香类自组装膜制备方法 | 第38-39页 |
| ·非芳香类自组装膜合成路线 | 第39-40页 |
| ·非芳香类自组装膜制备方法 | 第40页 |
| ·对自组装膜的表征 | 第40-47页 |
| ·水接触角的测量与对比 | 第40-41页 |
| ·紫外-可见(UV-vis)吸收光谱 | 第41-42页 |
| ·原子力显微镜图(AFM) | 第42-44页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第44-45页 |
| ·扫描电镜图(SEM) | 第45页 |
| ·X射线衍射图(XRD) | 第45-46页 |
| ·火焰原子吸收光谱(FAAS) | 第46-47页 |
| ·实验部分 | 第47-48页 |
| ·试剂和仪器 | 第47页 |
| ·溶剂及药品的处理 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第三章 自组装膜催化剂在Suzuki反应中的应用 | 第50-65页 |
| ·Suzuki反应的研究进展 | 第50-51页 |
| ·环钯自装膜(1a-3a)催化Suzuki反应 | 第51-57页 |
| ·温度和时间对反应的影响 | 第51-52页 |
| ·溶剂和碱对反应的影响 | 第52-53页 |
| ·对催化剂的筛选 | 第53-54页 |
| ·对底物的拓展 | 第54-55页 |
| ·对催化剂1a循环利用的探究 | 第55-56页 |
| ·对催化过程的探究 | 第56-57页 |
| ·环钯自装膜(4a-6a)催化Suzuki反应 | 第57-60页 |
| ·反应条件的筛选 | 第57-58页 |
| ·对催化剂的筛选 | 第58-59页 |
| ·对底物的拓展 | 第59-60页 |
| ·对催化剂5a循环利用的探究 | 第60页 |
| ·亚胺环钯自装膜(1b-5b)催化Suzuki反应 | 第60-63页 |
| ·反应条件的筛选 | 第60-61页 |
| ·对催化剂的筛选 | 第61页 |
| ·对底物的拓展 | 第61-63页 |
| ·对催化剂4b循环利用的探究 | 第63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第四章 结论 | 第65-66页 |
| 附图 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |