| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章：绪论 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·纳米材料的基本效应 | 第9-11页 |
| ·金属氧化物纳米材料的制备方法 | 第11-12页 |
| ·金属氧化物纳米材料的研究现状及应用 | 第12-19页 |
| ·功能性薄膜目前存在的主要问题 | 第19-20页 |
| ·论文的研究思路及主要内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 氧化铜纳米线阵列薄膜的制备及其气敏性质 | 第25-39页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的原理及操作规程 | 第26-29页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·材料制备 | 第29页 |
| ·材料表征 | 第29页 |
| ·气敏特性测试结构 | 第29-30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-36页 |
| ·形貌与结构 | 第30-33页 |
| ·气敏性质表征 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 Ti0_2/W0_3复合薄膜的动态电荷传输特性 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·材料制备 | 第39-40页 |
| ·材料表征 | 第40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-46页 |
| ·形貌、结构与I-V 特性 | 第40-42页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第42页 |
| ·Ti0_2/W0_3 复合薄膜的动态电荷分离与传输 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 金属与金属氧化物超薄膜的制备 | 第49-59页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·材料制备 | 第49-50页 |
| ·材料表征 | 第50页 |
| ·实验结果与讨论 | 第50-56页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第50-52页 |
| ·薄膜粗糙度的研究 | 第52-53页 |
| ·电压对粒径大小的影响 | 第53-54页 |
| ·热氧化法制备金属氧化物 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 工作总结与展望 | 第59-61页 |
| 工作总结 | 第59-60页 |
| 存在问题与展望 | 第60-61页 |
| 硕士期间完成的论文 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |