| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·薄膜的概况 | 第10-12页 |
| ·薄膜的应用 | 第10页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| ·二元过渡金属氮化物薄膜的性能及应用 | 第12-14页 |
| ·Ti N薄膜 | 第12-13页 |
| ·Cr N薄膜 | 第13页 |
| ·Zr N薄膜 | 第13-14页 |
| ·三元及多元金属氮化物薄膜性能及应用 | 第14-17页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜 | 第15页 |
| ·Ti(G,N)薄膜 | 第15页 |
| ·(Ti,Cr)N薄膜 | 第15-16页 |
| ·Ti-B-N薄膜 | 第16页 |
| ·Ti-Si-N薄膜 | 第16-17页 |
| ·多元金属氮化物 | 第17页 |
| ·本课题的研究目的及意义 | 第17-20页 |
| 第二章 实验材料与实验过程 | 第20-25页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·复合膜样品的制备 | 第20-22页 |
| ·镀膜设备 | 第20-21页 |
| ·复合膜的制备 | 第21-22页 |
| ·复合膜的显微结构 | 第22-23页 |
| ·膜层的表面及断面形貌 | 第22页 |
| ·膜层的XRD谱 | 第22页 |
| ·膜层的XPS图谱 | 第22-23页 |
| ·复合膜的性能检测 | 第23-25页 |
| ·硬度测试 | 第23页 |
| ·结合强度 | 第23-24页 |
| ·摩擦系数 | 第24页 |
| ·真空热处理 | 第24-25页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第25-52页 |
| ·沉积偏压对Ti-Cu-N复合膜的组织结构及其性能的影响 | 第25-32页 |
| ·不同沉积偏压下的Ti-Cu-N复合膜的微观组织及能谱 | 第25-27页 |
| ·不同沉积偏压下的Ti-Cu-N复合膜的XRD谱 | 第27-29页 |
| ·同沉积偏压下的Ti-Cu-N复合膜的力学性能 | 第29-32页 |
| ·Cu含量对Ti-Cu-N复合膜组织结构及其性能的影响 | 第32-41页 |
| ·不同Cu含量下的Ti-Cu-N复合膜的微观组织与能谱 | 第32-34页 |
| ·不同Cu含量下的Ti-Cu-N复合膜的XRD谱 | 第34-36页 |
| ·不同Cu含量下的Ti-Cu-N复合膜的XPS图谱 | 第36-38页 |
| ·不同Cu含量下的Ti-Cu-N复合膜的力学性能 | 第38-41页 |
| ·真空时效处理对Ti-Cu-N复合膜结构性能的影响 | 第41-47页 |
| ·真空热处理后Ti-Cu-N复合膜的微观组织 | 第41-42页 |
| ·真空热处理后Ti-Cu-N复合膜的XRD谱 | 第42-43页 |
| ·真空热处理后Ti-Cu-N复合膜的力学性能 | 第43-47页 |
| ·磁控溅射制备Ti-Cu-N复合膜 | 第47-52页 |
| ·沉积偏压对Ti-Cu-N纳米复合膜微结构的影响 | 第47-48页 |
| ·Cu含量对Ti-Cu-N纳米复合膜微结构的影响 | 第48-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 在学研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
