| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·单相多铁性材料的研究进展 | 第8-9页 |
| ·单相多铁性材料的性质及应用 | 第9-10页 |
| ·单相磁电材料HoM O3的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·单相磁电薄膜的制备方法概述 | 第11-14页 |
| ·溅射法镀膜 | 第12页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第12页 |
| ·溶胶-凝胶(sol-gel)法制膜 | 第12-13页 |
| ·分子束外延(MBE)制膜 | 第13页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD)制膜 | 第13页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)镀膜 | 第13-14页 |
| ·研究课题的主要内容和意义 | 第14-15页 |
| 2 脉冲激光沉积薄膜的机理分析 | 第15-21页 |
| ·脉冲激光沉积基本原理与过程 | 第15-17页 |
| ·激光表面熔蚀及等离子体产生 | 第15-16页 |
| ·等离子体向基底扩散 | 第16页 |
| ·等离子体在基底上的成膜阶段 | 第16-17页 |
| ·外延异质薄膜生长特性研究 | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积法的优缺点 | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积技术的发展现状 | 第19-21页 |
| 3 脉冲激光沉积HoMnO_3/Nb-doped SrTiO_3异质结 | 第21-27页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·HoMnO_3纯相靶材的制备以及表征 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积HoMnO3薄膜 | 第22-26页 |
| ·样品的制备 | 第22-23页 |
| ·样品的结构分析 | 第23-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 4 HoMnO_3/Nb-doped SrTiO_3异质结的介电性质 | 第27-40页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·o-HMO/NSTO异质结的介电性质 | 第27-33页 |
| ·介质损耗 | 第27-28页 |
| ·介电弛豫 | 第28-30页 |
| ·实验结果及讨论 | 第30-33页 |
| ·o-HMO/NSTO异质结的交流阻抗谱研究 | 第33-38页 |
| ·交流阻抗谱法简单介绍 | 第33-36页 |
| ·常温下HMO的阻抗谱 | 第36-37页 |
| ·变温下HMO的阻抗谱 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 5. O-HMO/NSTO异质结的电学性质 | 第40-47页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·电极的选择和接触问题 | 第40-42页 |
| ·HMO/NSTO异质结的电学性质 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 总结与展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 附录1 硕士期间发表的学术论文 | 第53-54页 |