ZnO颜料的纳米改性及质子辐照损伤机理研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景及意义 | 第9页 |
| ·热控涂层的热控原理 | 第9-12页 |
| ·太阳吸收比和半球发射率 | 第10-11页 |
| ·航天器的热平衡 | 第11-12页 |
| ·空间环境及其对热控涂层性能的影响 | 第12-15页 |
| ·空间真空环境 | 第12-13页 |
| ·冷黑环境 | 第13页 |
| ·太阳电磁辐射 | 第13-14页 |
| ·空间带电粒子辐射 | 第14-15页 |
| ·ZnO 型热控涂层的主要特点 | 第15-16页 |
| ·ZnO 热控涂层的研究进展和前沿 | 第16-18页 |
| ·带电粒子辐照下ZnO 热控涂层的研究进展 | 第16-17页 |
| ·表面添加剂对ZnO 光学性能退化抑制的作用机理 | 第17-18页 |
| ·当前ZnO 热控涂层的研究热点 | 第18页 |
| ·本文的研究的内容 | 第18-20页 |
| 第2章 样品制备和基本试验设备 | 第20-26页 |
| ·实验样品的制备 | 第20-21页 |
| ·辐照设备 | 第21-22页 |
| ·光谱反射率的测定 | 第22页 |
| ·太阳吸收比的计算 | 第22-23页 |
| ·表面形貌分析 | 第23页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第23-24页 |
| ·光致发光光谱分析 | 第24页 |
| ·正电子湮没波谱分析 | 第24-26页 |
| 第3章 ZnO 颜料的纳米改性 | 第26-37页 |
| ·ZnO 颜料的性能特点 | 第26-29页 |
| ·ZnO 粉体的基本物理特性 | 第26-27页 |
| ·ZnO 的纯度及光学性能 | 第27-29页 |
| ·纳米二氧化硅性能特点 | 第29-32页 |
| ·非晶态二氧化硅的基本物理性质 | 第29-31页 |
| ·纳米二氧化硅的光学特性 | 第31-32页 |
| ·纳米二氧化硅的分散 | 第32-34页 |
| ·纳米二氧化硅的分散工艺研究 | 第32-33页 |
| ·纳米二氧化硅的分散情况评价 | 第33-34页 |
| ·纳米二氧化硅在ZnO 颜料中的分散 | 第34-35页 |
| ·混粉工艺试验 | 第34页 |
| ·混粉工艺试验结果及分析 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 质子辐照下改性ZnO 颜料的光学性能退化 | 第37-56页 |
| ·纯ZnO 颜料的质子辐照研究 | 第37-40页 |
| ·光谱反射率的变化 | 第37-38页 |
| ·太阳吸收比的变化 | 第38-40页 |
| ·纳米二氧化硅的质子辐照研究 | 第40-41页 |
| ·光谱反射系数的变化 | 第40-41页 |
| ·太阳吸收比的变化 | 第41页 |
| ·纳米改性ZnO 颜料光学性能退化规律 | 第41-55页 |
| ·中低温热处理对颜料的光学性能的影响 | 第41-48页 |
| ·高温热处理对颜料光学性能的影响规律 | 第48-51页 |
| ·保温时间对ZnO 颜料光学性能的影响规律 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 纳米改性ZnO 颜料光学性能退化机理分析 | 第56-77页 |
| ·质子辐照对材料损伤的一般原理和过程 | 第56-57页 |
| ·试样表面形貌 | 第57-58页 |
| ·纳米改性ZnO 颜料X 射线衍射分析 | 第58-63页 |
| ·X 射线衍射定性分析 | 第58-61页 |
| ·X 射线衍射的结果与讨论 | 第61-63页 |
| ·颜料的光致发光谱分析 | 第63-74页 |
| ·光致发光谱 | 第63-70页 |
| ·光致发光光谱解析 | 第70-74页 |
| ·正电子湮没谱分析 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
