摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-20页 |
·课题来源和目的意义 | 第8-10页 |
·Bi_2O_3 光催化剂的研究 | 第10-12页 |
·Bi_2O_3 光催化剂的性质 | 第10-11页 |
·Bi_2O_3 半导体的能带位置 | 第11-12页 |
·Bi_2O_3 光催化反应机理 | 第12页 |
·提高Bi_2O_3 光催化能力的途径 | 第12-15页 |
·复合催化剂 | 第13页 |
·离子掺杂 | 第13-14页 |
·表面光敏化 | 第14-15页 |
·表面螯合和衍生 | 第15页 |
·Bi_2O_3 光催化剂的制备 | 第15-19页 |
·物理方法 | 第16-17页 |
·化学方法 | 第17-19页 |
·主要研究内容 | 第19-20页 |
第2章 实验材料及研究方法 | 第20-26页 |
·实验药品与仪器 | 第20-22页 |
·实验药品 | 第20页 |
·实验的主要仪器 | 第20-21页 |
·浸渍提拉制膜设备 | 第21页 |
·光催化实验设备 | 第21-22页 |
·实验方法 | 第22-26页 |
·浸渍提拉法制膜 | 第22-23页 |
·测试方法 | 第23-24页 |
·Bi_2O_3 薄膜光催化性能评价 | 第24-26页 |
第3章 溶胶凝胶法制备纳米晶Bi_2O_3 薄膜 | 第26-38页 |
·Bi_2O_3 溶胶的制备 | 第26-27页 |
·硝酸铋水溶液的配制 | 第26页 |
·有机添加剂对体系的影响 | 第26-27页 |
·Bi_2O_3 薄膜的制备 | 第27-37页 |
·制膜工艺研究 | 第27-28页 |
·烧结工艺研究 | 第28-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第4章 金属离子掺杂Bi_2O_3 薄膜研究 | 第38-71页 |
·Cu~(2+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜性能的影响 | 第38-48页 |
·Cu~(2+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜结构的影响 | 第38-41页 |
·Cu~(2+)掺杂Bi_2O_3 薄膜光学性能分析 | 第41-43页 |
·Cu~(2+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜光催化性能的影响 | 第43-48页 |
·Fe~(3+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜性能的影响 | 第48-58页 |
·Fe~(3+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜结构的影响 | 第48-51页 |
·Fe~(3+)掺杂Bi_2O_3 薄膜光学性能分析 | 第51-53页 |
·Fe~(3+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜光催化性能的影响 | 第53-58页 |
·Co~(2+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜性能的影响 | 第58-68页 |
·Co~(2+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜结构的影响 | 第58-61页 |
·Co~(2+)掺杂Bi_2O_3 薄膜光学性能分析 | 第61-63页 |
·Co~(2+)掺杂对Bi_2O_3 薄膜光催化性能的影响 | 第63-68页 |
·不同金属离子掺杂影响的比较 | 第68-69页 |
·本章小结 | 第69-71页 |
结论 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-77页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第77-79页 |
致谢 | 第79页 |