| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| §1．1 激光防护材料的性能要求 | 第7-9页 |
| §1．2 基于线性光学原理的激光防护 | 第9-10页 |
| §1．3 基于相变原理的激光防护 | 第10页 |
| §1．4 基于非线性光学原理的激光防护 | 第10-18页 |
| §1．4．1 非线性光学 | 第10-12页 |
| §1．4．2 非线性光学材料光限幅原理 | 第12-18页 |
| §1．5 非线性光限幅材料的种类 | 第18-25页 |
| §1．5．1 无机半导体材料 | 第18页 |
| §1．5．2 有机三阶非线性光学材料 | 第18-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-31页 |
| §2．1 烷氧基取代金属酞菁铅的合成 | 第25-30页 |
| §1．1．1 合成路线 | 第25-26页 |
| §1．1．2 试剂及仪器 | 第26-27页 |
| §2．1．3 4—硝基邻苯二甲酸的合成 | 第27-28页 |
| §1．1．4 4—硝基邻苯二甲酸二甲酯 | 第28页 |
| §1．1．5 4—硝基邻苯二甲酰胺的合成 | 第28页 |
| §2．1．6 4—硝基邻苯二腈的合成 | 第28-29页 |
| §2．1．7 4—烷氧基邻苯二腈的合成 | 第29页 |
| §2．1．8 烷氧基取代金属酞菁铅的合成 | 第29-30页 |
| §2．2 含烷氧基酞菁铅的聚合物的制备 | 第30-31页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第31-51页 |
| §3．1 化合物组成结构测试 | 第31-35页 |
| §3．1．1 元素分析 | 第31页 |
| §3．1．2 红外光谱 | 第31-33页 |
| §3．1．3 核磁共振氢谱 | 第33-35页 |
| §3．2 化合物组成结构分析 | 第35-37页 |
| §3．3 化合物的光谱特性 | 第37-42页 |
| §3．3．1 溶剂对化合物光谱特性的影响 | 第41页 |
| §3．3．2 取代基及中心金属对化合物光谱特性的影响 | 第41-42页 |
| §3．4 烷氧基酞菁铅／PMMA复合材料的性能表征 | 第42-51页 |
| §3．4．1 烷氧基酞菁铅／PMMA复合材料的耐热性 | 第42-44页 |
| §3．4．2 烷氧基酞菁铅／PMMA复合材料的光谱特性 | 第44-45页 |
| §3．4．3 复合材料的反饱和吸收特性研究 | 第45-51页 |
| 第四章 结论 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
