纳米磁性器件的微磁学精确模拟
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-37页 |
| ·硬盘工业与写磁头器件 | 第12-17页 |
| ·应用磁学理论发展的回顾 | 第17-35页 |
| ·磁畴理论 | 第17页 |
| ·微磁学理论 | 第17-22页 |
| ·微磁学模拟方法介绍 | 第22-24页 |
| ·写磁头的微磁学模拟 | 第24-27页 |
| ·边界条件的准确性研究 | 第27-29页 |
| ·磁滞回线的计算 | 第29-32页 |
| ·FeCo 材料介绍 | 第32-35页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第35-37页 |
| 第2章 任意形状纳米尺度磁性器件的微磁学模型 | 第37-64页 |
| ·本章引言 | 第37-38页 |
| ·微磁学单元退磁矩阵的解析解 | 第38-44页 |
| ·具有均匀磁荷的长方形表面贡献的退磁矩阵 | 第38-39页 |
| ·具有均匀磁荷的三角形表面贡献的退磁矩阵 | 第39-43页 |
| ·微磁学单元退磁矩阵 | 第43-44页 |
| ·算法改善 | 第44-45页 |
| ·静磁相互作用的计算 | 第44-45页 |
| ·微磁学单元之间交换相互作用场的计算 | 第45页 |
| ·程序的验证 | 第45-62页 |
| ·标准问题#3 和#4 的讨论 | 第45-50页 |
| ·微磁学单元极限大小的讨论 | 第50-52页 |
| ·含棱柱单元的微磁学模型准确性的讨论 | 第52-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第3章 写磁头以及硬磁纳米岛的动态特性研究 | 第64-88页 |
| ·本章引言 | 第64-65页 |
| ·磁荷驱动下的反转性能 | 第65-69页 |
| ·电流驱动下的反转性能 | 第69-79页 |
| ·尖端厚度的影响 | 第70-74页 |
| ·阻尼常数的影响 | 第74-76页 |
| ·软磁底层厚度的影响 | 第76-79页 |
| ·两种驱动的结果比较 | 第79-82页 |
| ·硬磁纳米岛反转性质研究 | 第82-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第4章 写磁头 FeCo 薄膜磁滞回线的研究 | 第88-101页 |
| ·本章引言 | 第88-89页 |
| ·软磁薄膜微磁学模型的改进 | 第89-93页 |
| ·微结构的引入和磁性参数的设定 | 第89-90页 |
| ·各向异性场的计算 | 第90-92页 |
| ·磁致伸缩效应和应力场 | 第92-93页 |
| ·模拟结果讨论 | 第93-99页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第96页 |
| ·应力状态的影响 | 第96-98页 |
| ·晶界处饱和磁化强度的影响 | 第98页 |
| ·晶粒排列整齐性的影响 | 第98-99页 |
| ·本章小结 | 第99-101页 |
| 第5章 含微结构写磁头尖端性能的模拟 | 第101-110页 |
| ·本章引言 | 第101页 |
| ·模型的介绍 | 第101-102页 |
| ·尖端部分的反转 | 第102-104页 |
| ·阻尼常数的影响 | 第102-103页 |
| ·易轴方向的影响 | 第103-104页 |
| ·磁导率的计算 | 第104-108页 |
| ·两种模型的比较 | 第104-105页 |
| ·易轴方向的影响 | 第105-106页 |
| ·含微结构模型与简单模型的比较 | 第106-108页 |
| ·本章小结 | 第108-110页 |
| 结论 | 第110-112页 |
| 参考文献 | 第112-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第124-125页 |
