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大尺寸CsB3O5晶体生长及应用研究

摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第一章 绪论第11-35页
   ·引言第11页
   ·紫外非线性光学晶体的研究进展第11-16页
     ·阴离子基团理论第11-12页
     ·硼酸盐体系中主要的阴离子基团第12-13页
     ·主要的硼酸盐非线性光学晶体第13-16页
   ·紫外激光的应用第16-18页
     ·激光微加工第16-17页
     ·激光化学第17页
     ·激光清洗第17-18页
     ·医学诊疗第18页
   ·用于紫外激光输出的非线性光学晶体第18-20页
     ·355nm激光输出第18-19页
     ·266nm激光输出第19页
     ·213nm激光输出第19页
     ·193nm激光输出第19页
     ·177.3nm激光输出第19-20页
   ·紫外非线性光学晶体CsB_3O_5 的研究现状第20-24页
   ·本论文的研究思路第24-25页
 参考文献第25-35页
第二章CsB_3O_5晶体的生长第35-55页
   ·引言第35页
   ·可以生长CBO晶体的方法第35-36页
   ·目前CBO晶体所存在的问题第36-37页
     ·CBO晶体生长的稳定性第36页
     ·CBO晶体的散射颗粒问题第36-37页
   ·研究思路第37-38页
   ·CBO晶体的生长第38-41页
     ·仪器设备与试剂第38页
     ·CBO粉末的合成第38页
     ·籽晶浸没法生长CBO单晶第38-40页
     ·顶部籽晶生长CBO单晶第40页
     ·原料失重率测量第40页
     ·原料挥发物的采集及分析第40-41页
     ·散射颗粒检测第41页
   ·结果与讨论第41-52页
     ·配料方法对晶体生长的影响第41-42页
     ·原始配比对晶体生长的影响第42-44页
     ·温度梯度对晶体生长的影响第44-48页
     ·降温速率和和旋转速率对晶体生长的影响第48页
     ·环境对晶体生长的影响第48-49页
     ·其他因素对晶体生长的影响第49页
     ·CBO晶体散射颗粒的检验第49-51页
     ·用顶部籽晶法生长CBO单晶的探索工作第51-52页
   ·本章小结第52-53页
 参考文献第53-55页
第三章 CsB_3O_5晶体的光学品质第55-65页
   ·获得高光学质量的CBO晶体第55-58页
   ·CBO晶体的光学表征第58-63页
     ·吸收系数测试第58-60页
     ·光学均匀性测试第60-61页
     ·激光损伤阈值的测试第61-63页
   ·本章小结第63-64页
 参考文献第64-65页
第四章 CsB_3O_5晶体缺陷的研究第65-77页
   ·引言第65页
   ·研究CBO晶体缺陷的手段第65-68页
     ·侵蚀法第65-66页
     ·光学显微分析第66-67页
     ·扫描电子显微镜第67页
     ·同步辐射X射线形貌术第67-68页
   ·CBO晶体的缺陷研究第68-76页
     ·拼晶第68-69页
     ·生长台阶第69页
     ·中芯部失透第69-70页
     ·位错第70-72页
     ·同步辐射形貌分析第72-76页
   ·本章小结第76页
 参考文献第76-77页
第五章 CsB_3O_5器件的三倍频增透膜研究第77-87页
   ·引言第77页
   ·膜系选择第77-78页
   ·镀三倍频增透膜第78-79页
     ·样品制备第78-79页
     ·镀膜工艺第79页
   ·三倍频增透膜的性质第79-85页
     ·三倍频增透膜的光学性能第79-80页
     ·环境稳定性第80-82页
     ·附着力第82-84页
     ·激光输出第84-85页
   ·本章小结第85-86页
 参考文献第86-87页
第六章 CsB_3O_5晶体的潮解机理及防潮研究第87-101页
   ·引言第87-88页
   ·CBO晶体潮解过程研究第88-90页
   ·CBO晶体潮解机理研究第90-93页
     ·CBO晶体的潮解产物第90-91页
     ·CBO晶体的潮解机理第91-93页
   ·制备防潮保护膜第93-96页
     ·有机硅疏水保护膜第93-95页
     ·紫外聚合物保护膜第95-96页
   ·保护膜防潮性能测试第96-99页
     ·环境稳定性测试第96-98页
     ·热稳定性测试第98-99页
   ·本章小结第99-100页
 参考文献第100-101页
第七章 全文总结第101-103页
   ·总结第101-102页
   ·需进一步开展的研究工作第102-103页
发表文章第103-104页
致谢第104页

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