| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·课题的学术背景及理论与实际意义 | 第9-14页 |
| ·关于镁 | 第9-12页 |
| ·镁合金表面处理及其种类 | 第12-14页 |
| ·国内外微弧氧化发展及研究综述 | 第14-22页 |
| ·镁合金微弧氧化研究在国外的发展 | 第14-15页 |
| ·镁合金微弧氧化技术在我国的发展 | 第15-18页 |
| ·镁合金微弧氧化工艺 | 第18-20页 |
| ·镁合金微弧氧化成膜过程火花放电模型 | 第20-22页 |
| ·本课题研究的来源及主要研究内容 | 第22-23页 |
| ·课题来源 | 第22页 |
| ·本文研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验条件和实验方案 | 第23-28页 |
| ·微弧氧化实验材料 | 第23页 |
| ·微弧氧化实验设备 | 第23-24页 |
| ·工艺参数对镁合金微弧氧化的影响 | 第24-26页 |
| ·电解液组分对镁合金微弧氧化的影响 | 第24页 |
| ·电解液电导率对镁合金微弧氧化的影响 | 第24-25页 |
| ·电解液温度对镁合金微弧氧化的影响 | 第25页 |
| ·处理时间对镁合金微弧氧化的影响 | 第25-26页 |
| ·脉冲频率对镁合金微弧氧化的影响 | 第26页 |
| ·实验方案 | 第26-28页 |
| ·微弧氧化工艺参数试验 | 第26页 |
| ·微弧氧化陶瓷层厚度、形貌、成分的测试与分析 | 第26-27页 |
| ·微弧氧化成膜机理的探讨 | 第27-28页 |
| 第三章 工艺参数对镁合金微弧氧化膜层性能的影响规律 | 第28-43页 |
| ·膜层性能的测试方法 | 第28-29页 |
| ·电解液参数对膜层性能的影响规律 | 第29-37页 |
| ·电解液中添加化合物对膜层性能的影响规律 | 第29-31页 |
| ·电解液浓度对膜层性能的影响规律 | 第31-34页 |
| ·电解液的温度对膜层性能的影响规律 | 第34-37页 |
| ·氧化时间对膜层性能的影响 | 第37-39页 |
| ·脉冲频率对膜层性能的影响规律 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第四章 镁合金微弧氧化成膜过程和成膜机理 | 第43-51页 |
| ·镁合金表面陶瓷层的生长条件 | 第43-45页 |
| ·陶瓷层形成的热力学条件 | 第43-44页 |
| ·陶瓷层生长的动力学过程 | 第44-45页 |
| ·镁合金微弧氧化的机理探讨 | 第45-50页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的形成过程 | 第45-46页 |
| ·微弧氧化负载特性 | 第46-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第58页 |