摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-37页 |
·液/液界面离子转移 | 第11-21页 |
·液/液界面离子转移的发展历史 | 第11-12页 |
·三相电极的实验装置 | 第12-14页 |
·三相电极法离子转移模式 | 第14-15页 |
·离子Gibbs 转移自由能的计算 | 第15-18页 |
·单离子的吉布斯转化能—“TATB”假设 | 第15-16页 |
·三相电极法离子Gibbs 转移自由能的计算 | 第16-18页 |
·三相电极法的研究进展 | 第18-20页 |
·总结与展望 | 第20-21页 |
·多核过渡金属铁氰化物修饰电极 | 第21-27页 |
·化学修饰电极的研究进展 | 第21-22页 |
·多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰电极的制备 | 第22-23页 |
·多核过渡金属铁氰化物修饰电极的电化学性质 | 第23页 |
·多核过渡金属铁氰化物修饰电极的结构 | 第23-25页 |
·过渡金属氰化物薄膜修饰电极研究进展 | 第25-27页 |
·本论文的研究思路 | 第27-28页 |
参考文献 | 第28-37页 |
第二章 三相电极法研究NO_2~-和Cl~-在液/液界面上的转移 | 第37-49页 |
·前言 | 第38页 |
·实验部分 | 第38页 |
·实验设备及试剂 | 第38页 |
·实验过程 | 第38页 |
·结果与讨论 | 第38-45页 |
·亚硝酸根离子在硝基苯/水界面上的转移 | 第39-43页 |
·亚硝酸根离子在硝基苯 | 第39-40页 |
·频率对亚硝酸根离子在硝基苯/水界面上的转移的影响 | 第40-41页 |
·IR 降对亚硝酸根离子在硝基苯/水界面上的转移的影响 | 第41-42页 |
·亚硝酸根浓度对其在硝基苯/水界面上的转移的影响 | 第42-43页 |
·氯离子在液/液界面上的转移 | 第43-45页 |
·氯离子在NB/W 界面上的转移 | 第44页 |
·不同有机溶剂对氯离子在液/液界面上的转移的影响 | 第44-45页 |
·小结 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
第三章 苯甲酸类阴离子在水溶液中的稳定性对其在 NB/W 界面上转移的影响 | 第49-61页 |
·前言 | 第49-50页 |
·实验部分 | 第50-51页 |
·实验设备及试剂 | 第50页 |
·实验过程 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-57页 |
·邻、对位取代苯甲酸根在硝基苯/水界面间的 Gibbs 转移自由能的测定 | 第51-52页 |
·邻、对位取代苯甲酸根的稳定性对它们的阴离子转移的影响 | 第52-57页 |
·结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-61页 |
第四章 铜钴铁氰酸薄膜修饰电极的制备、表征及离子选择透过性研究 | 第61-77页 |
·引言 | 第61-62页 |
·实验部分 | 第62页 |
·仪器与试剂 | 第62页 |
·实验方法 | 第62页 |
·结果与讨论 | 第62-72页 |
·铜钴铁氰酸薄膜修饰电极的制备 | 第62-63页 |
·铜钴铁氰酸薄膜修饰电极的电化学性质 | 第63-67页 |
·铜钴铁氰酸薄膜修饰电极循环伏安图 | 第63-65页 |
·不同的扫描范围的循环伏安图 | 第65-67页 |
·铜钴铁氰化物的结构表征 | 第67-69页 |
·阳离子的选择透过性研究 | 第69-72页 |
·碱金属阳离子的选择透过性研究 | 第69-70页 |
·不同酸根对K~+选择透过性的影响 | 第70-71页 |
·TMA~+ 和TEA~+选择透过性研究 | 第71-72页 |
·结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
在读硕士期间发表的论文 | 第77-78页 |
致谢 | 第78页 |