| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-27页 |
| ·电弧离子镀 | 第12-13页 |
| ·电弧离子镀的不足与解决现状 | 第13-16页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀 | 第16-18页 |
| ·本文研究材料的选择 | 第18-26页 |
| ·TiO_2的研究现状 | 第18-23页 |
| ·TiO_(2-x)N_x薄膜及其研究现状 | 第23页 |
| ·AlN的研究现状 | 第23-26页 |
| ·本论文的主要内容 | 第26-27页 |
| 2 薄膜的制备与表征方法 | 第27-36页 |
| ·实验设备简介 | 第27-28页 |
| ·实验方法 | 第28-30页 |
| ·基片的选择与制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·薄膜的表征和分析实验方法 | 第30-36页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第30-31页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第31-32页 |
| ·拉曼光谱 | 第32页 |
| ·膜基结合力测试 | 第32-33页 |
| ·摩擦学性能 | 第33页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第33-34页 |
| ·薄膜硬度测试 | 第34页 |
| ·物相与微结构分析 | 第34-35页 |
| ·表面形貌表征 | 第35页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第35-36页 |
| 3 脉冲偏压电弧离子镀TiO_2薄膜研究 | 第36-74页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的结构与性能 | 第36-57页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的表面形貌与表面粗糙度 | 第36-40页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的XRD分析 | 第40-41页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的Raman光谱分析 | 第41-42页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的TEM分析 | 第42-43页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的沉积速率 | 第43-44页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的XPS成份分析 | 第44-46页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的硬度与弹性模量 | 第46-47页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的光学性能 | 第47-51页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的膜基结合力测试 | 第51-53页 |
| ·玻璃基片上TiO_2薄膜的光催化实验 | 第53-57页 |
| ·硅基片上TiO_2薄膜的结构与性能 | 第57-64页 |
| ·Si基片上TiO_2薄膜的XRD分析 | 第57-59页 |
| ·Si基片上TiO_2薄膜的表面形貌与表面粗糙度 | 第59-62页 |
| ·Si基片上TiO_2薄膜的TEM分析 | 第62页 |
| ·Si基片上TiO_2薄膜的傅立叶变换红外光谱 | 第62-63页 |
| ·Si基片上TiO_2薄膜的Raman光谱分析 | 第63-64页 |
| ·不锈钢基片上TiO_2薄膜的结构与性能 | 第64-70页 |
| ·不锈钢基片上TiO_2薄膜的XRD分析 | 第64-65页 |
| ·不锈钢基片上TiO_2薄膜的表面形貌 | 第65-66页 |
| ·不锈钢基片上TiO_2薄膜的沉积速率 | 第66-67页 |
| ·不锈钢基片上TiO_2薄膜的硬度与弹性模量 | 第67-68页 |
| ·不锈钢基片上TiO_2薄膜的膜基结合力测试与分析 | 第68-70页 |
| ·沉积过程中的辅助加热对薄膜结晶程度的影响 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 4 脉冲偏压电弧离子镀TiO_(2-x)N_x薄膜研究 | 第74-89页 |
| ·玻璃基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的结构和性能 | 第74-79页 |
| ·玻璃基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的XPS分析 | 第74-76页 |
| ·玻璃基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的XRD分析 | 第76-77页 |
| ·玻璃基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的表面形貌 | 第77页 |
| ·玻璃基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的光学性能 | 第77页 |
| ·玻璃基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的摩擦磨损性能 | 第77-79页 |
| ·硅基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的结构与性能 | 第79-83页 |
| ·Si基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的XRD分析 | 第79-81页 |
| ·Si基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的TEM分析 | 第81-82页 |
| ·Si基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的硬度与弹性模量 | 第82-83页 |
| ·不锈钢基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的结构与性能 | 第83-88页 |
| ·不锈钢基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的XRD分析 | 第83-84页 |
| ·不锈钢基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的表面形貌 | 第84-86页 |
| ·不锈钢基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的硬度与弹性模量 | 第86页 |
| ·不锈钢基片上TiO_(2-x)N_x薄膜的膜基结合力测试与分析 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 5 脉冲偏压电弧离子镀AlN薄膜研究 | 第89-106页 |
| ·玻璃基片上AlN薄膜的结构与性能 | 第89-94页 |
| ·玻璃基片上AlN薄膜的XRD分析 | 第89-90页 |
| ·玻璃基片上AlN薄膜的表面形貌与表面粗糙度 | 第90-92页 |
| ·玻璃基片上AlN薄膜的硬度和弹性模量 | 第92-93页 |
| ·玻璃基片上AlN薄膜的沉积速率 | 第93-94页 |
| ·硅基片上AlN薄膜的结构与性能 | 第94-101页 |
| ·Si基片上AlN薄膜的XRD分析 | 第94-97页 |
| ·Si基片上AlN薄膜的表面形貌与表面粗糙度 | 第97-99页 |
| ·Si基片上AlN薄膜的傅立叶变换红外光谱 | 第99-101页 |
| ·Si基片上AlN薄膜的硬度和弹性模量 | 第101页 |
| ·不锈钢基片上AlN薄膜的结构与性能 | 第101-104页 |
| ·不锈钢基片上AlN薄膜的XRD分析 | 第101-103页 |
| ·不锈钢基片上AlN薄膜的表面形貌 | 第103-104页 |
| ·不锈钢基片上AlN薄膜的硬度和弹性模量 | 第104页 |
| ·本章小结 | 第104-106页 |
| 6 脉冲偏压等离子体鞘层特性对介电薄膜沉积的影响 | 第106-115页 |
| ·绝缘基片的脉冲偏压等离子体鞘层动力学模型 | 第106-110页 |
| ·脉冲偏压等离子体鞘层动力学特性对介电薄膜沉积的影响 | 第110-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 结论 | 第115-118页 |
| 参考文献 | 第118-127页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第127-128页 |
| 创新点摘要 | 第128-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
