不同孔径高度有序多孔阳极氧化铝模板的制备与稳定氧化过程添加剂的研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-21页 |
·氧化铝膜的基本介绍 | 第10-12页 |
·纳米孔氧化铝模板的制备 | 第12-13页 |
·氧化铝膜的形成机理及研究发展历程 | 第13-16页 |
·阳极氧化铝膜的应用 | 第16-19页 |
·在膜分离的应用 | 第17-18页 |
·在电容器中的应用 | 第18页 |
·在准一维纳米材料制备方面的应用 | 第18-19页 |
·本课题的研究目的及意义 | 第19-21页 |
第二章 阳极氧化铝模板的恒压法制备与表征 | 第21-39页 |
·实验部分 | 第21-24页 |
·试剂和仪器 | 第21-22页 |
·实验方法及步骤 | 第22-24页 |
·铝片预处理 | 第22-23页 |
·阳极氧化 | 第23页 |
·铝片后处理 | 第23-24页 |
·测试样品的制备与表征 | 第24页 |
·结果与讨论 | 第24-37页 |
·草酸中制备阳极氧化铝模板 | 第25-32页 |
·不同氧化电压的讨论 | 第25-28页 |
·不同氧化时间的讨论 | 第28-30页 |
·不同氧化温度的讨论 | 第30-31页 |
·不同浓度的讨论 | 第31-32页 |
·小结 | 第32页 |
·磷酸中制备阳极氧化铝模板 | 第32-34页 |
·恒压80V氧化 | 第32-33页 |
·恒压100V氧化 | 第33-34页 |
·恒压120V氧化 | 第34页 |
·小结 | 第34页 |
·硫酸中制备阳极氧化铝模板 | 第34-37页 |
·恒压10V氧化 | 第35页 |
·恒压20V氧化 | 第35-36页 |
·恒压25V氧化 | 第36-37页 |
·小结 | 第37页 |
·本章结论 | 第37-39页 |
第三章 阳极氧化铝模板的恒流法制备与表征 | 第39-55页 |
·实验部分 | 第39-40页 |
·试剂和仪器 | 第39-40页 |
·实验方法及步骤 | 第40页 |
·测试样品的制备与表征 | 第40页 |
·结果与讨论 | 第40-54页 |
·草酸中阳极氧化铝模板的制备 | 第40-45页 |
·恒流6mA氧化 | 第41页 |
·恒流8mA氧化 | 第41-42页 |
·恒流10mA氧化 | 第42页 |
·恒流12mA氧化 | 第42-43页 |
·恒流14mA氧化 | 第43-44页 |
·不同氧化时间的讨论 | 第44-45页 |
·磷酸中阳极氧化铝模板的制备 | 第45-50页 |
·恒流6mA氧化 | 第45-46页 |
·恒流8mA氧化 | 第46-47页 |
·恒流10mA氧化 | 第47-48页 |
·恒流12mA氧化 | 第48页 |
·不同氧化时间的讨论 | 第48-50页 |
·硫酸中阳极氧化铝模板的制备 | 第50-54页 |
·恒流20mA氧化 | 第50-51页 |
·恒流30mA氧化 | 第51-52页 |
·不同氧化时间的讨论 | 第52-54页 |
·本章结论 | 第54-55页 |
第四章 恒电压与恒电流密度氧化法的比较 | 第55-65页 |
·恒压法与恒流法结果对比 | 第55-60页 |
·草酸中不同氧化法制备阳极氧化铝模板 | 第55-57页 |
·磷酸中不同氧化法制备阳极氧化铝模板 | 第57-58页 |
·硫酸中不同氧化法制备阳极氧化铝模板 | 第58-60页 |
·氧化机理的讨论 | 第60-64页 |
·电场助溶模型 | 第60-61页 |
·临界电流密度效应模型 | 第61页 |
·体膨胀应力模型 | 第61页 |
·阳极氧化过程的化学反应 | 第61-62页 |
·恒压与恒流氧化机理比较 | 第62-64页 |
·本章结论 | 第64-65页 |
第五章 稳定氧化过程添加剂的研究 | 第65-73页 |
·氧化过程的不稳定现象 | 第65页 |
·稳定氧化过程的添加剂及其效果 | 第65-72页 |
·草酸电解液中氧化过程的稳定 | 第65-69页 |
·小结 | 第69页 |
·磷酸电解液中氧化过程的稳定 | 第69-71页 |
·小结 | 第71-72页 |
·添加剂作用机理分析 | 第72页 |
·本章结论 | 第72-73页 |
结论 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-81页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |