| 第一章 绪论 | 第1-17页 |
| 1．1 自适应光学技术与微光机电系统技术 | 第8-11页 |
| 1．2 MEMS微变形镜及其国内外发展现状 | 第11-14页 |
| 1．3 表面加工 MEMS微变形镜中的薄膜残余应力问题 | 第14-16页 |
| 1．4 本文研究目的与主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 分立活塞式 MEMS微变形镜设计与分析 | 第17-46页 |
| 2．1 引言 | 第17页 |
| 2．2 分立活塞式 MEMS微变形镜的系统级设计 | 第17-26页 |
| 2．2．1 系统级模型 | 第17-21页 |
| 2．2．2 不同结构参数对微变形镜机械性能的影响 | 第21-26页 |
| 2．3 微变形镜阵列的远场光学衍射性能分析 | 第26-30页 |
| 2．4 微变形镜设计中的空气压膜阻尼分析 | 第30-39页 |
| 2．4．1 不考虑阻尼孔情况 | 第32-35页 |
| 2．4．2 考虑阻尼孔情况 | 第35-39页 |
| 2．5 微变形镜单元及其阵列的掩膜版图设计 | 第39-41页 |
| 2．6 工艺流程制定及流片结果 | 第41-45页 |
| 2．7 本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 薄膜残余应力产生根源及对微变形镜性能的影响 | 第46-62页 |
| 3．1 引言 | 第46页 |
| 3．2 微机械薄膜残余应力的产生根源 | 第46-49页 |
| 3．2．1 热应力 | 第46-48页 |
| 3．2．2 内应力 | 第48页 |
| 3．2．3 外应力 | 第48-49页 |
| 3．3 多层薄膜结构受热载荷的影响 | 第49-56页 |
| 3．3．1 理想情况下热载荷导致的结构变形 | 第50-53页 |
| 3．3．2 不完整因素导致的“分叉”现象 | 第53-56页 |
| 3．4 薄膜残余应力对微变形镜性能的影响 | 第56-61页 |
| 3．4．1 机械性能方面 | 第56-60页 |
| 3．4．2 光学性能方面 | 第60-61页 |
| 3．5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 薄膜残余应力测量技术研究 | 第62-75页 |
| 4．1 引言 | 第62页 |
| 4．2 曲率测量技术的研究与有限元分析 | 第62-66页 |
| 4．3 微指针指示结构测薄膜残余应力 | 第66-72页 |
| 4．4 应力测试结构的版图设计与流片结果 | 第72-74页 |
| 4．5 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 薄膜残余应力控制技术研究 | 第75-86页 |
| 5．1 引言 | 第75页 |
| 5．2 常用的薄膜残余应力控制技术 | 第75-82页 |
| 5．2．1 控制沉积工艺条件 | 第75-78页 |
| 5．2．2 退火 | 第78-81页 |
| 5．2．3 应变相消法 | 第81-82页 |
| 5．3 其他控制技术 | 第82-85页 |
| 5．3．1 增加结构刚度 | 第82-84页 |
| 5．3．2 离子束微加工 | 第84-85页 |
| 5．4 本章小结 | 第85-86页 |
| 总结与展望 | 第86-90页 |
| 总结 | 第86-87页 |
| 展望 | 第87-90页 |
| 参考文献 | 第90-96页 |
| 硕士期间发表的学术论文和申请的专利 | 第96-97页 |
| 参与课题情况 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |