摘要 | 第1-10页 |
Abstract | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-31页 |
1 引言 | 第12-13页 |
2 光照对钝态金属腐蚀的影响 | 第13-19页 |
·光电化学理论基础 | 第13-18页 |
·钝化膜的分类 | 第14-15页 |
·钝化膜的电子性质 | 第15-16页 |
·钝化膜的光电流 | 第16-18页 |
·光照对钝态金属腐蚀影响的研究现状 | 第18-19页 |
3 金属的半导体光电化学防腐蚀研究 | 第19-27页 |
·半导体光电化学防腐蚀原理 | 第19-21页 |
·影响光电化学方法防腐蚀的因素 | 第21-24页 |
·半导体种类和性质 | 第21-22页 |
·溶液组成 | 第22页 |
·光强 | 第22页 |
·提高半导体光电转换效率的途径 | 第22-24页 |
·光电化学方法防腐蚀的研究现状 | 第24-27页 |
·TiO_2/不锈钢体系 | 第24页 |
·TiO_2/铜体系 | 第24-25页 |
·TiO_2/碳钢体系 | 第25-26页 |
·改性TiO_2涂层体系 | 第26-27页 |
4 本论文选题目的、意义和研究内容 | 第27-28页 |
·目的和意义 | 第27页 |
·研究内容 | 第27-28页 |
本章参考文献 | 第28-31页 |
第二章 研究方法 | 第31-35页 |
1 化学试剂和实验仪器 | 第31-32页 |
·化学试剂及规格 | 第31-32页 |
·实验仪器 | 第32页 |
2 测试方法 | 第32-34页 |
·表面形貌观察 | 第32页 |
·光电化学测试方法 | 第32-34页 |
·线性扫描伏安法 | 第33页 |
·计时电流法 | 第33页 |
·电化学阻抗谱 | 第33页 |
·Mott-Schottky分析 | 第33-34页 |
本章参考文献 | 第34-35页 |
第三章 光照对 X70钢钝化膜性质的影响 | 第35-47页 |
1 引言 | 第35页 |
2 实验方法 | 第35-36页 |
·X70钢电极的制备 | 第35-36页 |
·光电化学测试 | 第36页 |
3 结果与讨论 | 第36-45页 |
·光照对腐蚀敏感性的影响 | 第36-38页 |
·光缓蚀效应的可能机理 | 第38-44页 |
·X70钢的腐蚀类型 | 第44-45页 |
4 小结 | 第45页 |
本章参考文献 | 第45-47页 |
第四章 TiO_2阳极对 X70钢可见光光电化学防腐蚀的可行性研究 | 第47-54页 |
1 引言 | 第47页 |
2 实验部分 | 第47-48页 |
·电极的制备 | 第47-48页 |
·溶胶合成 | 第47-48页 |
·光电极的制备 | 第48页 |
·光电化学测试 | 第48页 |
3 结果与讨论 | 第48-53页 |
·半导体电极的光电效应 | 第48-50页 |
·光电压的产生及影响因素 | 第50-51页 |
·光电压的产生 | 第50页 |
·光电压的影响因素 | 第50-51页 |
·可见光下TiO_2及掺杂TiO_2对X70钢保护的可行性研究 | 第51-53页 |
4 小结 | 第53页 |
本章参考文献 | 第53-54页 |
第五章 WO_3光阳极对 Cu的光电化学防腐蚀研究 | 第54-66页 |
1 引言 | 第54页 |
2 实验方法 | 第54-56页 |
·电极的制备 | 第54-55页 |
·WO_3电极的制备 | 第54-55页 |
·Cu对电极的准备 | 第55页 |
·光电化学测试 | 第55页 |
·铜离子浓度的分析 | 第55-56页 |
3 结果与讨论 | 第56-64页 |
·阴极电沉积的原理 | 第56页 |
·阴极电沉积WO_3薄膜电极的优化实验 | 第56-60页 |
·沉积电位的影响 | 第56-57页 |
·烧结温度的影响 | 第57-58页 |
·沉积时间的影响 | 第58-60页 |
·WO_3阳极体系的优化实验 | 第60-63页 |
·空穴捕获剂的影响 | 第61页 |
·甲酸浓度的影响 | 第61-62页 |
·阳极槽pH的影响 | 第62-63页 |
·WO_3光阳极对Cu阴极的保护研究 | 第63-64页 |
·阴极槽pH对短路光电流的影响 | 第63页 |
·WO_3光阳极对Cu阴极的保护效果 | 第63-64页 |
4 小结 | 第64-65页 |
本章参考文献 | 第65-66页 |
第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
1 总结 | 第66-67页 |
2 进一步工作展望 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
附录: 攻读硕士期间完成的论文 | 第69页 |