| 中文摘要 | 第1-10页 |
| 英文摘要 | 第10-19页 |
| 第一部分 绪论 | 第19-78页 |
| 第一章 分子印迹技术及其应用 | 第20-60页 |
| ·分子印迹技术的基本原理和分类 | 第20-23页 |
| ·分子印迹聚合物的识别机理 | 第23-25页 |
| ·分子印迹聚合物的制备 | 第25-31页 |
| ·分子印迹聚合物的表征 | 第31-34页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第34-45页 |
| ·分子印迹技术的现存问题及其发展趋势 | 第45-60页 |
| 第二章 不同价态的锰的化学发光行为 | 第60-78页 |
| ·高锰酸钾体系 | 第60-69页 |
| ·锰(Ⅳ)体系 | 第69-70页 |
| ·锰(Ⅲ)体系 | 第70页 |
| ·锰(Ⅱ)体系 | 第70-78页 |
| 第二部分 高锰酸钾/Ce(Ⅳ)化学发光体系分子印迹-化学发光分析法研究 | 第78-131页 |
| 第一章 Ce(Ⅳ)-Na_2SO_3化学发光体系分子印迹-化学发光法测定诺氟沙星 | 第80-88页 |
| 第二章 高锰酸钾化学发光体系分子印迹-化学发光法测定吗啡 | 第88-97页 |
| 第三章 高锰酸钾-甲醛-非那西丁化学发光体系分子印迹-化学发光分析法的研究 | 第97-107页 |
| 第四章 马钱子碱分子印迹-化学发光传感器的研究 | 第107-118页 |
| 第五章 高锰酸钾-硫代硫酸钠-甲氧苄啶化学发光体系分子印迹-化学发光分析法的研究 | 第118-131页 |
| 第三部分 可溶性锰(Ⅳ)化学发光体系分子印迹-化学发光分析法研究 | 第131-187页 |
| 第一章 可溶性锰(Ⅳ)化学发光反应的研究 | 第132-142页 |
| 第二章 锰(Ⅳ)-甲醛-抗坏血酸化学发光体系的研究 | 第142-149页 |
| 第三章 流动注射化学发光分析法测定磺胺类药物 | 第149-156页 |
| 第四章 可溶性锰(Ⅳ)化学发光体系分子印迹-化学发光法测定安乃近 | 第156-165页 |
| 第五章 锰(Ⅳ)-甲醛化学发光体系分子印迹-化学发光法测定吲哚美辛 | 第165-175页 |
| 第六章 锰(Ⅳ)-甲醛-他莫西芬化学发光体系分子印迹-化学发光分析法的研究 | 第175-187页 |
| 第四部分 铁氰化钾化学发光体系后化学发光行为的研究 | 第187-209页 |
| 第一章 铁氰化钾-鲁米诺体系后化学发光行为的研究—流动注射后化学发光法测定可待因 | 第188-193页 |
| 第二章 Ni~(2+)、Mg~(2+)、Cd~(2+)和Zn~(2+)在铁氰化钾-鲁米诺体系中的后化学发光行为 | 第193-202页 |
| 第三章 铁氰化钾-钙黄绿素体系后化学发光现象的研究—Ca~(2+)、Sr~(2+)、Ba~(2+)、氨基比林、维生素B_1、异烟肼、盐酸异丙嗪、盐酸硫利达嗪、苯酚和间苯三酚在铁氰化钾-钙黄绿素体系中的后化学发光行为 | 第202-209页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第209-211页 |
| 致谢 | 第211页 |
