| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·气相沉积硬质膜(镀层)的发展 | 第12-14页 |
| ·TiAlN的结构、性能与应用 | 第14-21页 |
| ·TiAlN的结构 | 第14-16页 |
| ·TiN、TiC、Ti(C，N)及TiAlN系列薄膜(镀层)的主要性能和比较 | 第16-21页 |
| ·TiAlN薄膜(镀层)的主要制备方法和表征 | 第21-25页 |
| ·TiAlN薄膜(镀层)的主要制备方法 | 第21-24页 |
| ·TiAlN薄膜的表征 | 第24-25页 |
| ·TiAlN系列硬质薄膜的发展方向 | 第25-26页 |
| 第二章 TiAlN薄膜的制备及实验方法 | 第26-38页 |
| ·基底试样的制备及其预处理 | 第26-28页 |
| ·TiAlN薄膜的制备 | 第28-33页 |
| ·直流磁控溅射原理 | 第28-31页 |
| ·TiAlN薄膜的制备方法 | 第31-32页 |
| ·沉积工艺 | 第32-33页 |
| ·样品测试方法 | 第33-38页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第33-34页 |
| ·薄膜成份与组织结构的分析测试 | 第34-38页 |
| 第三章 基本工艺参数对TiAlN薄膜表面组织结构和性能的影响 | 第38-54页 |
| ·序言 | 第38页 |
| ·XRD分析 | 第38-45页 |
| ·XRD物相分析 | 第38-40页 |
| ·薄膜试样织构的XRD分析 | 第40-42页 |
| ·氮气流量变化和温度对样品表面织构的影响 | 第42-45页 |
| ·膜层厚度测试 | 第45页 |
| ·表面形貌分析 | 第45-50页 |
| ·扫描电镜的结果 | 第45-46页 |
| ·氮气流量对表面形貌的影响 | 第46-49页 |
| ·基体温度变化对表面形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·工艺参数与性能的其它相互作用关系 | 第50-53页 |
| ·氮气流量变化、基体温度变化对显微硬度的影响 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 偏压对薄膜的影响 | 第54-62页 |
| ·序言 | 第54页 |
| ·试验装置的偏压改造及试验参数的设定 | 第54-55页 |
| ·试验装置的加偏压改造 | 第54-55页 |
| ·试验参数的设定 | 第55页 |
| ·试验结果和讨论 | 第55-62页 |
| ·试验结果 | 第55-61页 |
| ·结果讨论 | 第61-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 在校期间发表的学术论文 | 第68页 |