等离子体浸没离子注入系统研制及其相关物理研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·前言 | 第8页 |
| ·等离子体浸没离子注入和束线离子注入的比较 | 第8-13页 |
| ·束线离子注入的特点 | 第8-11页 |
| ·等离子体浸没离子注入的特点 | 第11-13页 |
| ·等离子体浸没离子注入的应用 | 第13-15页 |
| ·高分子材料上的应用 | 第13页 |
| ·金属材料上的应用 | 第13页 |
| ·半导体材料上的应用 | 第13-15页 |
| ·等离子体浸没离子注入的发展 | 第15-17页 |
| ·本论文主要工作 | 第17-18页 |
| ·本论文工作的创新点 | 第18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 等离子体浸没离子注入实验装置 | 第23-41页 |
| ·等离子体浸没离子注入总系统 | 第23-25页 |
| ·真空系统 | 第25-29页 |
| ·等离子体源 | 第29-31页 |
| ·负脉冲高压电源 | 第31-35页 |
| ·绝缘衬台和高压靶台 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 等离子体浸没离子注入的等离子体参数诊断 | 第41-58页 |
| ·射频电感耦合等离子体 | 第41-45页 |
| ·顶部平面螺旋天线的电容耦合等效电路图 | 第42-43页 |
| ·顶部平面螺旋天线的电感耦合等效电路图 | 第43-45页 |
| ·顶部电感耦合等离子体密度温度测量 | 第45-55页 |
| ·朗缪尔静电双探针系统 | 第45-48页 |
| ·拱形螺旋天线的实验分析 | 第48-55页 |
| ·天线描述 | 第49页 |
| ·天线实验表现与性能分析 | 第49-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第四章 表面波等离子体源的研究 | 第58-75页 |
| ·表面波等离子体研究 | 第58-65页 |
| ·等离子体激元研究 | 第65-72页 |
| ·表面波应用于等离子体浸没离子注入研究 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第五章 高压鞘层对等离子体浸没离子注入参数的影响 | 第75-85页 |
| ·高压鞘层理论 | 第75-79页 |
| ·鞘层的探针测量方法 | 第79-80页 |
| ·负脉冲高压对鞘层外体等离子体的影响 | 第80-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-85页 |
| 第六章 等离子体浸没离子注入应用研究 | 第85-97页 |
| ·发光多孔硅 | 第86-91页 |
| ·n型向p型转化的氧化锌薄膜 | 第91-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-97页 |
| 第七章 总结与展望 | 第97-101页 |
| ·本论文工作的主要内容 | 第97-98页 |
| ·本论文工作的创新点 | 第98-99页 |
| ·实验中存在的问题 | 第99-100页 |
| ·下一步可进行的工作 | 第100-101页 |
| 发表论文和申请专利 | 第101-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
