| 提要 | 第1-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-47页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·超硬薄膜的发展历史 | 第10-13页 |
| ·纳米颗粒复合膜 | 第13-17页 |
| ·Me-Si-N体系纳米颗粒复合膜 | 第13-16页 |
| ·Ti-B-N颗粒复合膜及其他颗粒复合膜体系 | 第16-17页 |
| ·纳米多层膜 | 第17-27页 |
| ·超硬纳米多层膜强化理论 | 第27-31页 |
| ·Hall-Petch强化理论 | 第27-28页 |
| ·协调应变理论 | 第28-29页 |
| ·模量差异致硬 | 第29-31页 |
| ·本论文的研究意义及内容 | 第31-34页 |
| 参考文献 | 第34-47页 |
| 第二章 磁控溅射方法制备TiN/SiN_x纳米多层膜工艺及相关实验设备 | 第47-61页 |
| ·磁控溅射方法沉积TiN/SiN_x纳米多层膜 | 第47-51页 |
| ·沉积参数的优化 | 第49-50页 |
| ·调制比、周期的优化及多层膜热稳定性的研究 | 第50-51页 |
| ·TiN/SiN_x纳米多层膜调制周期和沉积率的测定 | 第51-53页 |
| ·TiN/SiN_x纳米多层膜的表征手段 | 第53-59页 |
| ·X射线技术 | 第53-54页 |
| ·纳米压痕测试 | 第54-58页 |
| ·其他测试设备 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第三章 沉积条件对TiN/SiN_x纳米多层膜的微观结构及力学性能的影响 | 第61-90页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·溅射压强的影响 | 第61-69页 |
| ·衬底偏压的影响 | 第69-73页 |
| ·沉积温度的影响 | 第73-77页 |
| ·N_2与Ar气体流量比的影响 | 第77-84页 |
| ·N_2与Ar气体流量比对TiN单层膜的影响 | 第77-78页 |
| ·N_2与Ar气体流量比对TiN/SiN_x多层膜的影响 | 第78-84页 |
| ·本章小节 | 第84-87页 |
| 参考文献 | 第87-90页 |
| 第四章 SiN_x层厚及周期对TiN/SiN_x纳米多层膜的微观结构和力学性能的影响及多层膜的热稳定性研究 | 第90-110页 |
| ·引言 | 第90-91页 |
| ·SiN_x层厚的影响 | 第91-95页 |
| ·周期的影响 | 第95-100页 |
| ·TiN/SiN_x纳米多层膜的热稳定性研究 | 第100-106页 |
| ·本章小节 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-110页 |
| 第五章 TiN/SiN_x纳米多层膜的断裂行为研究 | 第110-137页 |
| ·引言 | 第110页 |
| ·衡量断裂韧性的方法 | 第110-114页 |
| ·薄膜在压头下的断裂机制 | 第114-115页 |
| ·TiN/SiN_x纳米多层膜薄膜与衬底的界面断裂行为 | 第115-130页 |
| ·Si(111)衬底的断裂行为 | 第115-118页 |
| ·TiN/SiN_x纳米多层膜薄膜与衬底的界面断裂 | 第118-126页 |
| ·周期为5.03纳米的多层膜薄膜与衬底的界面断裂行为 | 第120-124页 |
| ·周期为10.05纳米的多层膜及TiN单层膜的界面断裂行为 | 第124-126页 |
| ·薄膜与衬底界面断裂机制 | 第126-127页 |
| ·薄膜与衬底界面断裂韧性的计算 | 第127-130页 |
| ·应变速率对TiN/SiN_x多层膜薄膜与衬底界面断裂行为的影响 | 第130-132页 |
| ·本章小节 | 第132-134页 |
| 参考文献 | 第134-137页 |
| 第六章 本文结论 | 第137-141页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第141-143页 |
| 摘要 | 第143-148页 |
| Abstract | 第148-155页 |
| 致谢 | 第155页 |
