| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| 第二章 激光干涉光刻 | 第11-20页 |
| ·相干光干涉的基本理论 | 第11-13页 |
| ·相干光的概念 | 第11-12页 |
| ·双缝干涉 | 第12-13页 |
| ·激光干涉光刻 | 第13-20页 |
| ·干涉条纹强度分布 | 第13-15页 |
| ·图像对比度 | 第15-16页 |
| ·环境噪音对对比度的影响 | 第16-20页 |
| 第三章 纳米光栅制作 | 第20-63页 |
| ·实验装置 | 第20-23页 |
| ·LLOYD’S-MIRROR和MACH-ZEHNDER干涉装置 | 第20-21页 |
| ·光源 | 第21-22页 |
| ·反射镜和旋转台 | 第22-23页 |
| ·衬底准备 | 第23-25页 |
| ·衬底Si | 第23-24页 |
| ·衬底准备 | 第24-25页 |
| ·涂胶 | 第25-27页 |
| ·旋涂和前烘 | 第25-26页 |
| ·光刻胶 | 第26-27页 |
| ·干涉曝光 | 第27-30页 |
| ·曝光剂量和占空比(DC) | 第27-28页 |
| ·显影时间和占空比 | 第28-30页 |
| ·曝光结果 | 第30-32页 |
| ·结构转移 | 第32-63页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第32-35页 |
| ·硅光栅纳米压印模板刻蚀 | 第35-48页 |
| ·SiO_2光栅模板刻蚀 | 第48-49页 |
| ·点阵制作 | 第49-52页 |
| ·复合模板制作 | 第52-63页 |
| 第四章 总结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表与专利申请 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |