| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 1 绪论 | 第7-25页 |
| ·铁电材料概论 | 第7-15页 |
| ·铁电材料的基本性质 | 第7-10页 |
| ·铁电材料的分类 | 第10-14页 |
| ·铁电材料研究史与进展 | 第14-15页 |
| ·铁电薄膜(Ferroelectric Films) | 第15-20页 |
| ·铁电薄膜简介 | 第15-16页 |
| ·铁电薄膜研究的发展状况 | 第16-18页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究目的及主要内容 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 2 Bi_4Ti_3O_(12) 和Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3 及其掺杂铁电薄膜的制备及分析测试方法 | 第25-38页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·薄膜制备 | 第25-30页 |
| ·仪器设备 | 第25-26页 |
| ·原料 | 第26页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第26-27页 |
| ·衬底材料的选择及清洗 | 第27-28页 |
| ·薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·电极的制备 | 第29-30页 |
| ·分析测试技术 | 第30-37页 |
| ·差热与热重分析 | 第30-31页 |
| ·红外(Infrared-IR)光谱 | 第31页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜研究表面形貌 | 第32页 |
| ·扫描电镜 | 第32-33页 |
| ·电容-电压特性 | 第33-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 3 镨掺杂Bi_4Ti_3O_(12) 薄膜的结构、形貌及电学性质 | 第38-55页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·Bi_4Ti_3O_(12)（BTO）薄膜 | 第39-48页 |
| ·热重和差热（TG/DTA）分析 | 第39-41页 |
| ·红外光谱分析 | 第41-42页 |
| ·Si 衬底上 Bi_4Ti_3O_(12)（BTO）铁电薄膜的XRD 图谱分析 | 第42-44页 |
| ·扫描电镜（SEM）分析 | 第44-47页 |
| ·电滞回线 | 第47-48页 |
| ·Bi_(3.85)Pr_(0.15)Ti_3O_(12)（0.15Pr-BTO）薄膜 | 第48-51页 |
| ·热重和示差扫描量热分析（TG-DSC） | 第48-50页 |
| ·Si 衬底0.15Pr-Bi_4Ti_3O_(12) 铁电薄膜的XRD 图谱分析 | 第50-51页 |
| ·电滞回线 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 4 钾掺杂Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3 薄膜的结构、形貌及电学性质 | 第55-71页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3（NBT）薄膜 | 第56-64页 |
| ·TG-DSC 分析 | 第56-58页 |
| ·红外光谱分析 | 第58-59页 |
| ·X-射线衍射图谱与表面形貌分析 | 第59-60页 |
| ·C-V 曲线 | 第60-62页 |
| ·电滞回线 | 第62-64页 |
| ·0.8Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3-0.2K_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3 薄膜 | 第64-68页 |
| ·0.8Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3-0.2K_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3 热分析（TG-DSC） | 第64-66页 |
| ·SEM 分析 | 第66-67页 |
| ·电滞回线 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 5 结论与展望 | 第71-73页 |
| ·主要结论 | 第71-72页 |
| ·创新点 | 第72页 |
| ·需进一步讨论的问题 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录I 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74页 |
