Ti-6A1-4V合金表面微弧氧化膜的制备工艺及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-27页 |
| ·课题背景与意义 | 第15-16页 |
| ·钛及钛合金 | 第16-18页 |
| ·钛及钛合金的基本性质 | 第16-17页 |
| ·钛及钛合金的表面改性 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化技术 | 第18-23页 |
| ·微弧氧化的概念及现象 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化技术的理论模型 | 第19-23页 |
| ·微弧氧化技术的应用领域 | 第23-24页 |
| ·钛及钛合金微弧氧化的研究现状 | 第24页 |
| ·钛及钛合金微弧氧化研究现存在的问题 | 第24-25页 |
| ·本研究课题的主要内容及目的 | 第25-27页 |
| 第二章 实验设备、材料及方法 | 第27-33页 |
| ·实验原理 | 第27页 |
| ·微弧氧化试验装置 | 第27页 |
| ·工艺过程 | 第27-30页 |
| ·实验材料和仪器 | 第27-29页 |
| ·微弧氧化的工艺流程 | 第29页 |
| ·微弧氧化过程 | 第29-30页 |
| ·实验参数的确定 | 第30-31页 |
| ·电参数的选择 | 第30页 |
| ·电解液配方和浓度的选择 | 第30-31页 |
| ·氧化时间的选择 | 第31页 |
| ·电解液初始温度的选择 | 第31页 |
| ·微弧氧化膜的性能分析 | 第31-32页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第31页 |
| ·扫描电镜(SEM)观察 | 第31-32页 |
| ·X 射线电子能谱（EDS）分析 | 第32页 |
| ·钛合金微弧氧化膜的耐蚀性分析 | 第32页 |
| ·钛合金微弧氧化膜的硬度测量 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 硅酸钠盐体系微弧氧化实验结果分析 | 第33-46页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验参数的选择与实验步骤 | 第33-34页 |
| ·实验结果与分析 | 第34-45页 |
| ·电解液初始温度对微弧氧化的影响 | 第34-38页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化的影响 | 第38-40页 |
| ·微弧氧化时间对微弧氧化的影响 | 第40-42页 |
| ·电解电压对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 磷酸氢二钠盐体系微弧氧化实验结果分析 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验参数的选择与实验步骤 | 第46-47页 |
| ·实验结果与讨论 | 第47-57页 |
| ·实验现象分析 | 第47页 |
| ·电解液初始温度对起弧电压的影响 | 第47-48页 |
| ·氧化时间对微弧氧化的影响 | 第48-51页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化的影响 | 第51-53页 |
| ·电压对微弧氧化膜层的影响 | 第53-55页 |
| ·涂层XRD 相分析 | 第55-57页 |
| 第五章 氢氧化钠体系微弧氧化实验结果分析 | 第57-70页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·实验参数的选择与实验步骤 | 第57-58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-68页 |
| ·实验现象分析 | 第58页 |
| ·氧化时间和电流之间的关系 | 第58-60页 |
| ·氧化膜颜色与电压和浓度的关系 | 第60-61页 |
| ·钛氧化膜的显微硬度和耐腐蚀性分析 | 第61-63页 |
| ·微弧氧化膜的扫描电镜(SEM)分析 | 第63-65页 |
| ·微弧氧化膜的X 衍射(XRD)相分析 | 第65页 |
| ·微弧氧化膜陶瓷表面 EDS 分析 | 第65-66页 |
| ·分析讨论 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第70-73页 |
| ·全篇总结 | 第70-71页 |
| ·展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第78-79页 |
