| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| §1.1 金刚石的结构特征、性质及应用 | 第7-12页 |
| §1.1.1 金刚石的晶体结构 | 第7-8页 |
| §1.1.2 金刚石的分类 | 第8页 |
| §1.1.3 金刚石的性质及应用 | 第8-12页 |
| §1.2 人工合成金刚石的历史 | 第12-14页 |
| §1.3 低压气相沉积金刚石的制备技术简介 | 第14-16页 |
| §1.3.1 热丝CVD法 | 第14-15页 |
| §1.3.2 等离子体CVD法 | 第15-16页 |
| §1.4 CVD金刚石的生长机理 | 第16-19页 |
| §1.4.1 碳的P—T相图 | 第17-18页 |
| §1.4.2 CVD金刚石的化学反应过程 | 第18页 |
| §1.4.3 原子氢(H)的作用 | 第18-19页 |
| §1.5 CVD金刚石的生长模式 | 第19-22页 |
| §1.6 论文的选题及主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验设备及表征方法 | 第23-28页 |
| §2.1 MPCVD装置 | 第23-26页 |
| §2.1.1 MPCVD技术简介 | 第23页 |
| §2.1.2 本文采用的MPCVD装置介绍 | 第23-24页 |
| §2.1.3 MPCVD法制备金刚石膜的工艺 | 第24-26页 |
| §2.1.4 MPCVD法制备大尺寸单晶金刚石的工艺 | 第26页 |
| §2.2 金刚石的表征技术 | 第26-28页 |
| 第三章 多晶金刚石膜的生长特性及透明膜的制备 | 第28-34页 |
| §3.1 各因素对多晶金刚石膜生长的影响 | 第28-32页 |
| §3.2 光学级自支撑膜的制备 | 第32-33页 |
| §3.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 同质外延高速生长大尺寸CVD单晶金刚石及其生长特性的研究 | 第34-50页 |
| §4.1 大尺寸CVD单晶金刚石的研究进展 | 第34-35页 |
| §4.2 籽晶的选择及籽晶托的设计 | 第35-37页 |
| §4.3 CVD法同质外延高速生长单晶金刚石 | 第37-39页 |
| §4.4 CVD单晶金刚石表面形貌的研究 | 第39-41页 |
| §4.5 CVD单晶金刚石生长特性的研究 | 第41-43页 |
| §4.6 CVD单晶金刚石的结晶性能 | 第43-44页 |
| §4.7 CVD单晶金刚石内的氮分布的研究(PL) | 第44-48页 |
| §4.7.1 CVD单晶金刚石的PL谱 | 第44-45页 |
| §4.7.2 CVD单晶金刚石上表面以及内部的氮分布 | 第45-48页 |
| §4.8 CVD单晶金刚石的抛光工艺 | 第48-49页 |
| §4.9 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 全文总结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |
| 攻读硕士期间发表和提交的论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 中文摘要 | 第60-62页 |
| Abstract | 第62-63页 |
