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锗基与二氧化铪基铁磁半导体的电子结构和磁性研究

摘要第1-11页
Abstract第11-14页
第一章 序论第14-58页
   ·自旋电子学简介第14页
   ·铁磁性半导体简介第14-16页
   ·Ge基铁磁性半导体第16-41页
   ·HfO_2基铁磁性半导体第41-53页
   ·本论文研究的问题第53页
 参考文献第53-58页
第二章 研究方法和程序介绍第58-68页
   ·密度泛函理论第58-64页
     ·多粒子体系的薛定谔方程第58-59页
     ·Hartree-Fock方程第59-60页
     ·Hohenberg-Kohn定理第60-61页
     ·Kohn-Sham方程第61-62页
     ·交换关联泛函第62-63页
     ·赝势法和全电子法第63-64页
   ·常用软件包简介第64-66页
     ·ESPRESSO第64页
     ·Vienna Ab-initio Simulation Package(VASP)第64-65页
     ·Material Studio(MS)第65页
     ·Gaussian第65页
     ·WIEN第65页
     ·SIESTA第65-66页
   ·Espresso程序介绍第66页
 参考文献第66-68页
第三章 Mn_xGe_(1-x)磁性半导体中H填隙传递的铁磁性第68-82页
   ·引言第68-70页
   ·研究方法与计算参数的设定第70页
   ·计算结果和讨论第70-80页
     ·不含H填隙的Mn_xGe_(1-x)第70-74页
     ·含有H填隙的Mn_xGe_(1-x)材料第74-80页
   ·本章小结第80页
 参考文献第80-82页
第四章 HfO_2体系中d电子对磁性的影响第82-96页
   ·引言第82-83页
   ·研究方法与计算参数的设定第83-84页
   ·无掺杂HfO_2和Co掺杂HfO_2体系的电子结构和磁性第84-90页
     ·研究体系的选取第84-85页
     ·缺陷态的热稳定性第85-87页
     ·Co掺杂HfO_2的电子结构第87-90页
   ·LDA+U修正及U值的计算第90-93页
   ·本章小结第93页
 参考文献第93-96页
第五章 总结第96-97页
致谢第97-98页
攻读博士学位期间发表的专业论文目录第98-110页
学位论文评阅及答辩情况表第110页

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