摘要 | 第1-11页 |
Abstract | 第11-14页 |
第一章 序论 | 第14-58页 |
·自旋电子学简介 | 第14页 |
·铁磁性半导体简介 | 第14-16页 |
·Ge基铁磁性半导体 | 第16-41页 |
·HfO_2基铁磁性半导体 | 第41-53页 |
·本论文研究的问题 | 第53页 |
参考文献 | 第53-58页 |
第二章 研究方法和程序介绍 | 第58-68页 |
·密度泛函理论 | 第58-64页 |
·多粒子体系的薛定谔方程 | 第58-59页 |
·Hartree-Fock方程 | 第59-60页 |
·Hohenberg-Kohn定理 | 第60-61页 |
·Kohn-Sham方程 | 第61-62页 |
·交换关联泛函 | 第62-63页 |
·赝势法和全电子法 | 第63-64页 |
·常用软件包简介 | 第64-66页 |
·ESPRESSO | 第64页 |
·Vienna Ab-initio Simulation Package(VASP) | 第64-65页 |
·Material Studio(MS) | 第65页 |
·Gaussian | 第65页 |
·WIEN | 第65页 |
·SIESTA | 第65-66页 |
·Espresso程序介绍 | 第66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第三章 Mn_xGe_(1-x)磁性半导体中H填隙传递的铁磁性 | 第68-82页 |
·引言 | 第68-70页 |
·研究方法与计算参数的设定 | 第70页 |
·计算结果和讨论 | 第70-80页 |
·不含H填隙的Mn_xGe_(1-x) | 第70-74页 |
·含有H填隙的Mn_xGe_(1-x)材料 | 第74-80页 |
·本章小结 | 第80页 |
参考文献 | 第80-82页 |
第四章 HfO_2体系中d电子对磁性的影响 | 第82-96页 |
·引言 | 第82-83页 |
·研究方法与计算参数的设定 | 第83-84页 |
·无掺杂HfO_2和Co掺杂HfO_2体系的电子结构和磁性 | 第84-90页 |
·研究体系的选取 | 第84-85页 |
·缺陷态的热稳定性 | 第85-87页 |
·Co掺杂HfO_2的电子结构 | 第87-90页 |
·LDA+U修正及U值的计算 | 第90-93页 |
·本章小结 | 第93页 |
参考文献 | 第93-96页 |
第五章 总结 | 第96-97页 |
致谢 | 第97-98页 |
攻读博士学位期间发表的专业论文目录 | 第98-110页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第110页 |