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基于聚砜膜的电化学阻抗谱研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-24页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 膜分离技术简介第13-17页
        1.2.1 分离膜的分类第13-15页
        1.2.2 有机分离膜的制备第15-17页
    1.3 膜污染概述第17页
    1.4 膜污染的形成及其对膜结构的影响第17-19页
    1.5 电化学阻抗谱概念第19-20页
    1.6 电化学阻抗谱在分离膜中的应用第20-21页
    1.7 本课题的研究内容第21-24页
第2章 电化学参数对电化学阻抗谱的影响第24-38页
    2.1 引言第24页
    2.2 实验部分第24-26页
        2.2.1 实验药品及仪器设备第24-25页
        2.2.2 Zview模拟等效元件和简单等效电路的阻抗谱第25页
        2.2.3 聚砜分离膜的制备第25页
        2.2.4 电化学阻抗谱测试第25-26页
    2.3 结果与讨论第26-37页
        2.3.1 电化学阻抗谱简介第26-27页
        2.3.2 单电子元件情况下的阻抗谱图第27页
        2.3.3 简单串并联电路的阻抗图谱第27-32页
        2.3.4 体系的等效电路模型第32-34页
        2.3.5 电解质浓度对电化学阻抗谱的影响第34-37页
    2.4 本章小结第37-38页
第3章 膜孔洞结构对电化学阻抗谱的影响第38-51页
    3.1 引言第38页
    3.2 实验部分第38-39页
        3.2.1 实验仪器和设备第38-39页
        3.2.2 不同孔洞结构的聚砜膜的制备第39页
    3.3 结构与性能表征第39-41页
        3.3.1 电化学阻抗谱测试第39页
        3.3.2 称重法测孔隙率第39-40页
        3.3.3 水通量测试第40页
        3.3.4 SEM测试第40-41页
    3.4 结果与讨论第41-49页
        3.4.1 添加不同PEG含量对阻抗谱的影响第41-46页
        3.4.2 膜的孔隙率和水通量第46-48页
        3.4.3 不同结构聚砜膜的表面形貌第48-49页
    3.5 本章小结第49-51页
第4章 g-C_3N_4/PSf复合膜的制备和表征第51-64页
    4.1 引言第51-52页
    4.2 实验部分第52-54页
        4.2.1 实验药品及仪器设备第52-53页
        4.2.2 g-C_3N_4的制备第53页
        4.2.3 g-C_3N_4/PSf复合膜的制备第53-54页
        4.2.4 复合膜受压测试第54页
    4.3 结构与性能表征第54-55页
        4.3.1 XRD测试第54页
        4.3.2 SEM测试第54页
        4.3.3 光催化测试第54页
        4.3.4 电化学阻抗谱测试第54-55页
    4.4 结果与讨论第55-62页
        4.4.1 XRD分析第55-56页
        4.4.2 g-C_3N_4/PSf复合膜表面形貌分析第56-57页
        4.4.3 复合膜受压研究第57-59页
        4.4.4 复合膜光降解性能第59-61页
        4.4.5 复合膜的电化学阻抗谱研究第61-62页
    4.5 本章小结第62-64页
第5章 总结与展望第64-66页
    5.1 总结第64-65页
    5.2 展望与不足第65-66页
参考文献第66-76页
攻读硕士期间已发表的论文第76-78页
致谢第78页

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