| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-11页 |
| 目次 | 第11-15页 |
| 符号清单 | 第15-16页 |
| 1 引言 | 第16-19页 |
| 2 文献综述 | 第19-37页 |
| ·NO_x的组成及性质 | 第19页 |
| ·NO_x脱除技术的现状与研究进展 | 第19-28页 |
| ·干法脱硝 | 第19-21页 |
| ·湿法脱硝 | 第21-28页 |
| ·小结 | 第28页 |
| ·NO氧化反应的研究进展 | 第28-35页 |
| ·直接氧化法 | 第28-29页 |
| ·催化氧化法 | 第29-32页 |
| ·NO与O_2反应机理及研究进展 | 第32-35页 |
| ·本论文的研究内容与目标 | 第35-37页 |
| 3 实验方法和内容 | 第37-45页 |
| ·仪器与试剂 | 第37-38页 |
| ·仪器设备 | 第37页 |
| ·实验用气体 | 第37页 |
| ·试剂与药品 | 第37-38页 |
| ·实验方法及流程 | 第38-39页 |
| ·催化剂制备、预处理及改性 | 第39-41页 |
| ·活性炭(AC)改性处理方法 | 第39-40页 |
| ·ZSM-5分子筛的处理 | 第40页 |
| ·全硅β分子筛的合成 | 第40页 |
| ·SBA-15分子筛的合成 | 第40-41页 |
| ·MCM-41分子筛的合成 | 第41页 |
| ·催化剂的表征 | 第41-42页 |
| ·比表面积和孔结构的测定 | 第41页 |
| ·活性炭表面酸碱基团的测定 | 第41页 |
| ·XRD表征 | 第41-42页 |
| ·程序升温脱附测试 | 第42页 |
| ·原位漫反射红外光谱测试 | 第42页 |
| ·研究内容及实验条件 | 第42-45页 |
| ·碱液吸收法脱除NO_x过程研究 | 第42-43页 |
| ·活性炭(AC)、改性活性炭(MAC)材料上的NO氧化过程研究 | 第43页 |
| ·ZSM-5分子筛催化剂上NO的氧化过程研究 | 第43-44页 |
| ·全硅β分子筛催化剂活性评价内容 | 第44页 |
| ·微孔分子筛催化剂上NO吸附、催化氧化机理研究 | 第44-45页 |
| 4 碱液吸收法脱除NO_x过程的研究 | 第45-58页 |
| ·碱液吸收法中各组分浓度对NO_x脱除率的影响 | 第45-49页 |
| ·NaOH浓度的影响 | 第45-47页 |
| ·NaOH溶液中氧化剂浓度的影响 | 第47-48页 |
| ·NaOH溶液中还原剂浓度的影响 | 第48-49页 |
| ·进口NO_x浓度对NO_x脱除率的影响 | 第49-51页 |
| ·气体停留时间对NO_x脱除率的影响 | 第51-53页 |
| ·进口NO_x氧化度对NO_x脱除率的影响 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 5 改性活性炭上NO的催化氧化 | 第58-67页 |
| ·活性碳(AC)催化剂的筛选 | 第58-59页 |
| ·活性炭(AC)表面改性研究 | 第59-62页 |
| ·氮气保护下高温焙烧改性对NO催化氧化的影响 | 第59-60页 |
| ·氢气保护下高温焙烧改性对NO催化氧化的影响 | 第60-62页 |
| ·改性活性炭上NO的氧化过程研究 | 第62-66页 |
| ·水汽含量的影响 | 第63页 |
| ·反应温度的影响 | 第63-65页 |
| ·空时的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 6 分子筛ZSM-5催化氧化NO的性能研究 | 第67-80页 |
| ·合成分子筛的表征 | 第68-69页 |
| ·全硅β分子筛的XRD表征 | 第68-69页 |
| ·MCM-41和SBA-15分子筛的XRD表征 | 第69页 |
| ·不同孔道结构的催化剂对NO常温氧化的性能比较 | 第69-70页 |
| ·不同类型ZSM-5分子筛对NO的催化氧化性能 | 第70-74页 |
| ·H-ZSM-5分子筛上NO氧化的瞬态变化过程 | 第70-71页 |
| ·Na-ZSM-5分子筛上NO氧化的瞬态变化过程 | 第71-73页 |
| ·不同硅铝比的H-ZSM-5催化氧化NO的性能 | 第73-74页 |
| ·操作条件对NO氧化的影响 | 第74-77页 |
| ·反应温度的影响 | 第74-75页 |
| ·水汽含量的影响 | 第75-76页 |
| ·进口NO浓度的影响 | 第76页 |
| ·进口O_2浓度的影响 | 第76-77页 |
| ·空时的影响 | 第77页 |
| ·ZSM-5分子筛催化剂的稳定性研究 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 7 全硅β分子筛对NO的常温氧化性能 | 第80-87页 |
| ·全硅β分子筛和H-ZSM-5对NO氧化的催化活性比较 | 第80-82页 |
| ·全硅β和高硅H-ZSM-5分子筛上NO氧化瞬态变化过程的比较 | 第80-81页 |
| ·全硅β分子筛和高硅H-ZSM-5的抗水汽性能比较 | 第81-82页 |
| ·操作条件对NO氧化的影响 | 第82-85页 |
| ·反应温度的影响 | 第82-83页 |
| ·进口NO浓度的影响 | 第83页 |
| ·水汽含量的影响 | 第83-84页 |
| ·空时的影响 | 第84-85页 |
| ·全硅β分子筛催化剂的稳定性研究 | 第85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 8 高硅Na-ZSM-5分子筛上NO的氧化机理研究 | 第87-102页 |
| ·高硅Na-ZSM-5对NO、NO_2的吸附性能 | 第88-89页 |
| ·高硅Na-ZSM-5分子筛表面上NO+O_2的吸附-氧化过程 | 第89-91页 |
| ·不同阳离子ZSM-5分子筛表面的NO氧化过程 | 第91-93页 |
| ·进口NO_x浓度呈周期变化时ZSM-5分子筛表面的NO氧化过程 | 第93-94页 |
| ·Na-ZSM-5分子筛上NO氧化体系的TPD/TPSR研究 | 第94-97页 |
| ·Na-ZSM-5分子筛上NO氧化反应体系的原位DRIFTS研究 | 第97-100页 |
| ·Na-ZSM-5分子筛上NO吸附-氧化过程机理分析 | 第100-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 9 全硅β分子筛上NO的氧化机理研究 | 第102-114页 |
| ·全硅β分子筛对NO、NO_2的吸附性能 | 第102-103页 |
| ·全硅β分子筛表面上NO+O_2的吸附-氧化过程 | 第103-104页 |
| ·全硅β分子筛上NO氧化系统的TPD/TPSR研究 | 第104-107页 |
| ·全硅β分子筛上单独吸附NO的TPD研究 | 第104-105页 |
| ·全硅β分子筛上单独吸附NO_2的TPD/TPSR研究 | 第105-106页 |
| ·全硅β分子筛上吸附NO+O_2的TPD/TPSR研究 | 第106-107页 |
| ·全硅β分子筛上NO氧化反应体系的原位DRIFTS研究 | 第107-112页 |
| ·全硅β分子筛单独吸附NO的原位DRIFTS研究 | 第107-108页 |
| ·全硅β分子筛单独吸附NO_2的原位DRIFTS研究 | 第108-110页 |
| ·全硅β分子筛共吸附NO+O_2的原位DRIFTS研究 | 第110-112页 |
| ·全硅β分子筛与Na-ZSM-5分子筛上NO的吸附-氧化过程对比 | 第112页 |
| ·全硅β分子筛上NO的吸附-氧化机理分析 | 第112-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 10 结论与展望 | 第114-117页 |
| ·主要结论 | 第114-116页 |
| ·展望 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-128页 |
| 作者简历和读博期间成果 | 第128-129页 |
