摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-33页 |
第一节 高温超导体及其应用简介 | 第12-14页 |
第二节 高温超导薄膜简述 | 第14-22页 |
·高温超导薄膜简述 | 第14-16页 |
·高温超导薄膜的主要制备方法 | 第16-19页 |
·高温超导薄膜的基片选择 | 第19-22页 |
·缓冲材料的选择 | 第22页 |
第三节 论文研究背景和意义 | 第22-28页 |
·Tl-2212高温超导薄膜 | 第22-25页 |
·大面积高温超导薄膜 | 第25-26页 |
·本论文的研究意义及结构 | 第26-28页 |
参考文献 | 第28-33页 |
第二章 缓冲薄膜和超导薄膜的制备及其表征方法 | 第33-47页 |
第一节 CeO_2缓冲薄膜和Tl-2212超导薄膜的制备 | 第33-36页 |
·CeO_2缓冲薄膜的制备 | 第33-34页 |
·Tl-2212高温超导薄膜的制备 | 第34-36页 |
第二节 缓冲薄膜和超导薄膜分析表征方法 | 第36-46页 |
·薄膜的分析表征方法 | 第36-42页 |
·高温超导薄膜的超导电性分析 | 第42-46页 |
参考文献 | 第46-47页 |
第三章 蓝宝石基片上生长双面CeO_2缓冲薄膜 | 第47-70页 |
第一节 CeO_2缓冲薄膜的制备 | 第48-58页 |
·CeO_2薄膜的制备方法 | 第48页 |
·基片温度对CeO_2薄膜生长的影响 | 第48-52页 |
·溅射气压对CeO_2薄膜生长的影响 | 第52-55页 |
·溅射功率对CeO_2薄膜生长的影响 | 第55-58页 |
第二节 CeO_2薄膜的高温热处理 | 第58-63页 |
·高温处理对CeO_2薄膜表面形貌的影响 | 第58-59页 |
·高温处理对CeO_2薄膜晶体结构和元素扩散的影响 | 第59-63页 |
第四节 不同厚度的CeO_2薄膜 | 第63-64页 |
第五节 双面CeO_2缓冲薄膜的制备与分析 | 第64-66页 |
第六节 本章小结 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-70页 |
第四章 蓝宝石基片上制备Tl_2Ba_2CaCu_2O_8高温超导薄膜 | 第70-90页 |
第一节 CeO_2缓冲层上制备Tl-2212超导薄膜 | 第71-83页 |
·Tl-2212超导薄膜的制备 | 第71-72页 |
·CeO_2薄膜的制备工艺对Tl-2212薄膜生长的影响 | 第72-78页 |
·CeO_2薄膜的高温热处理对Tl-2212薄膜生长的影响 | 第78-80页 |
·双面Tl-2212高温超导薄膜的制备 | 第80-83页 |
第二节 大面积Tl-2212超导薄膜的制备 | 第83-88页 |
·大面积CeO_2缓冲薄膜的制备 | 第83-86页 |
·大面积Tl-2212高温超导薄膜的制备 | 第86-88页 |
第三节 本章小结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-90页 |
第五章 MgO基片上制备Tl_2Ba_2CaCu_2O_8高温超导薄膜 | 第90-114页 |
第一节 MgO基片的高温热处理 | 第91-93页 |
·高温热处理对MgO晶体结构的影响 | 第91-92页 |
·MgO基片高温热处理对CeO_2缓冲层的影响 | 第92-93页 |
第二节 CeO_2缓冲薄膜的制备 | 第93-100页 |
·基片温度对CeO_2薄膜生长的影响 | 第94-96页 |
·溅射总气压对CeO_2薄膜生长的影响 | 第96-98页 |
·溅射功率对CeO_2薄膜生长的影响 | 第98-100页 |
第三节 Tl-2212超导薄膜的制备 | 第100-106页 |
·Tl-2212超导薄膜的制备 | 第100页 |
·在MgO基片上生长Tl-2212超导薄膜 | 第100-101页 |
·基片退火对Tl-2212超导薄膜的影响 | 第101-103页 |
·不同溅射条件生长的CeO_2缓冲层对Tl-2212超导薄膜的影响 | 第103-106页 |
第四节 在MgO基片上制备双面Tl-2212超导薄膜 | 第106-108页 |
第五节 在MgO基片上制备大面积CeO_2缓冲薄膜 | 第108-110页 |
·大面积CeO_2缓冲薄膜的制备 | 第108-110页 |
第六节 本章小结 | 第110-112页 |
参考文献 | 第112-114页 |
第六章 总结与展望 | 第114-116页 |
致谢 | 第116-117页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第117-118页 |