摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 硅纳米线概述 | 第11-12页 |
1.3 硅纳米线的制备 | 第12-16页 |
1.3.1 化学气相沉积法 | 第12-13页 |
1.3.2 热气相沉积法 | 第13页 |
1.3.3 激光烧蚀法 | 第13-15页 |
1.3.4 溶液法 | 第15页 |
1.3.5 模板法 | 第15-16页 |
1.4 熔盐电解固态二氧化硅制备硅材料的研究现状 | 第16-23页 |
1.4.1 熔盐电解法简介 | 第16-17页 |
1.4.2 熔盐电解制备硅材料 | 第17-23页 |
1.5 选题意义及主要研究内容 | 第23-25页 |
1.5.1 选题的目的和意义 | 第23-24页 |
1.5.2 主要研究内容 | 第24-25页 |
2 实验部分 | 第25-32页 |
2.1 实验原料及主要设备 | 第25-26页 |
2.1.1 实验原料 | 第25页 |
2.1.2 主要仪器设备 | 第25-26页 |
2.2 工艺流程及实验方法 | 第26-29页 |
2.2.1 实验工艺流程 | 第26-27页 |
2.2.2 实验方法 | 第27-29页 |
2.3 材料表征方法 | 第29-30页 |
2.3.1 扫描电子显微镜表征(SEM) | 第29页 |
2.3.2 透射电子显微镜表征(TEM) | 第29页 |
2.3.3 背散射电子像表征(BSE) | 第29-30页 |
2.3.4 电子衍射分析(SAED) | 第30页 |
2.3.5 能谱分析(EDS) | 第30页 |
2.3.6 X-射线衍射分析(XRD) | 第30页 |
2.4 材料电化学性能表征 | 第30-32页 |
3 甲酸镍/SiO_2复合多孔电极片的烧结行为研究 | 第32-47页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 实验部分 | 第32-33页 |
3.2.1 实验原料及主要设备 | 第32-33页 |
3.3 甲酸镍的性质 | 第33-39页 |
3.3.1 甲酸镍的物理性质 | 第33-34页 |
3.3.2 甲酸镍氮气气氛中的烧结 | 第34-36页 |
3.3.3 甲酸镍原料在空气气氛中的烧结 | 第36-39页 |
3.4 甲酸镍/SiO_2复合多孔电极片制备工艺研究 | 第39-45页 |
3.4.1 甲酸镍/SiO_2复合多孔电极片制备工艺流程 | 第39-40页 |
3.4.2 甲酸镍/SiO_2复合多孔电极片混料工艺研究 | 第40-42页 |
3.4.3 甲酸镍/SiO_2复合多孔电极片烧结 | 第42-45页 |
3.5 本章小结 | 第45-47页 |
4 Ni/SiO_2复合多孔电极片熔盐电解制备硅纳米线 | 第47-62页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 实验 | 第47-48页 |
4.2.1 实验原料及主要设备 | 第47-48页 |
4.2.2 实验步骤 | 第48页 |
4.3 镍添加量对电解产物的影响 | 第48-53页 |
4.3.1 镍添加量范围的确定 | 第48-49页 |
4.3.2 镍含量对电解产物物相组成的影响 | 第49-52页 |
4.3.3 镍含量对电解产物形貌的影响 | 第52-53页 |
4.4 催化剂镍在熔盐中的稳定性研究 | 第53-60页 |
4.4.1 电解时间对电解产物的影响 | 第53-56页 |
4.4.2 催化剂镍在高温条件下稳定性研究 | 第56-60页 |
4.5 本章小结 | 第60-62页 |
5 NiO/SiO_2复合多孔电极片熔盐电解制备硅纳米线 | 第62-74页 |
5.1 引言 | 第62页 |
5.2 实验 | 第62-63页 |
5.2.1 实验原料及主要设备 | 第62页 |
5.2.2 实验步骤 | 第62-63页 |
5.3 氧化亚镍含量对电解产物形貌的影响 | 第63-64页 |
5.4 催化剂氧化亚镍稳定性研究 | 第64-68页 |
5.4.1 电解时间对电解产物的研究 | 第64-65页 |
5.4.2 催化剂氧化亚镍在高温条件下稳定性研究 | 第65-68页 |
5.5 硅纳米线的结构及电化学性能表征 | 第68-72页 |
5.5.1 硅纳米线的XPS分析 | 第68-69页 |
5.5.2 硅纳米线的TEM、HRTEM及EDS分析 | 第69-71页 |
5.5.3 硅纳米线的电化学性能 | 第71-72页 |
5.6 本章小结 | 第72-74页 |
结论 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-85页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第85-86页 |
致谢 | 第86页 |