| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第15-35页 |
| 1.1 毒死蜱 | 第15-19页 |
| 1.1.1 毒死蜱的概述 | 第15页 |
| 1.1.2 毒死蜱的作用及危害 | 第15-16页 |
| 1.1.3 毒死蜱的检测方法 | 第16-19页 |
| 1.2 分子印迹技术 | 第19-26页 |
| 1.2.1 分子印迹技术的概述 | 第19-20页 |
| 1.2.2 分子印迹技术的基本原理及特点 | 第20-21页 |
| 1.2.3 分子印迹聚合物的制备 | 第21-26页 |
| 1.2.3.1 分子印迹聚合物的制备要素 | 第21-22页 |
| 1.2.3.2 分子印迹聚合物的制备方法 | 第22-26页 |
| 1.3 分子印迹电化学传感器 | 第26-33页 |
| 1.3.1 分子印迹电化学传感器的工作原理 | 第26页 |
| 1.3.2 分子印迹电化学传感器的制备方法 | 第26-29页 |
| 1.3.3 分子印迹电化学传感器的应用 | 第29-33页 |
| 1.4 课题的研究意义及研究内容 | 第33-35页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第33-34页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第34-35页 |
| 第2章 沉淀聚合法制备毒死蜱电化学传感器及其应用研究 | 第35-52页 |
| 2.1 前言 | 第35页 |
| 2.2 实验部分 | 第35-40页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第35-36页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第36-37页 |
| 2.2.3 毒死蜱分子印迹聚合物(MIPs)的制备 | 第37-38页 |
| 2.2.4 毒死蜱分子印迹电化学传感器的制备 | 第38-39页 |
| 2.2.5 电化学测定方法 | 第39-40页 |
| 2.2.6 实际样品的预处理 | 第40页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第40-51页 |
| 2.3.1 洗脱MIPs、未洗脱MIPs和NIPs的形态结构特征 | 第40-43页 |
| 2.3.1.1 电镜分析 | 第40-41页 |
| 2.3.1.2 红外图谱(FT-IR)分析 | 第41-42页 |
| 2.3.1.3 N_2吸附-脱附表征 | 第42-43页 |
| 2.3.2 电化学特性分析 | 第43-44页 |
| 2.3.3 实验条件的优化 | 第44-47页 |
| 2.3.3.1 电解液的选择 | 第44-45页 |
| 2.3.3.2 MIPs浓度对修饰电极的影响 | 第45页 |
| 2.3.3.3 电解液pH值对修饰电极的影响 | 第45页 |
| 2.3.3.4 吸附时间对修饰电极的影响 | 第45-47页 |
| 2.3.4 毒死蜱分子印迹电化学传感器的性能研究 | 第47-50页 |
| 2.3.4.1 线性范围分析 | 第47页 |
| 2.3.4.2 重复性和稳定性分析 | 第47-48页 |
| 2.3.4.3 选择性分析 | 第48-50页 |
| 2.3.5 实际样品分析 | 第50页 |
| 2.3.6 毒死蜱分子印迹电化学传感器与其它分析方法的比较 | 第50-51页 |
| 2.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第3章 表面印迹/石墨烯-碳纳米管毒死蜱电化学传感器的制备及其应用研究 | 第52-74页 |
| 3.1 前言 | 第52-53页 |
| 3.2 实验部分 | 第53-58页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第53页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第53-54页 |
| 3.2.3 纳米二氧化硅的合成及改性 | 第54页 |
| 3.2.4 毒死蜱分子印迹聚合物的制备 | 第54-55页 |
| 3.2.5 氧化石墨烯和羧基化碳纳米管的制备 | 第55-56页 |
| 3.2.6 石墨烯-碳纳米管复合材料的制备 | 第56页 |
| 3.2.7 壳聚糖溶液的制备 | 第56页 |
| 3.2.8 毒死蜱分子印迹电化学传感器的制备 | 第56-57页 |
| 3.2.9 电化学测定方法 | 第57页 |
| 3.2.10 实际样品的预处理 | 第57-58页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第58-73页 |
| 3.3.1 MIPs-SiO_2和Gr-CNTs的形态结构特征 | 第58-63页 |
| 3.3.1.1 电镜分析 | 第58-59页 |
| 3.3.1.2 红外图谱(FT-IR)分析 | 第59-62页 |
| 3.3.1.3 XRD分析 | 第62页 |
| 3.3.1.4 N_2吸附-脱附表征 | 第62-63页 |
| 3.3.2 不同修饰电极的电化学特性分析 | 第63-66页 |
| 3.3.3 实验条件的优化 | 第66-70页 |
| 3.3.3.1 Gr-CNTs浓度对修饰电极的影响 | 第66-67页 |
| 3.3.3.2 壳聚糖浓度对修饰电极的影响 | 第67页 |
| 3.3.3.3 MIPs-SiO_2浓度对修饰电极的影响 | 第67-68页 |
| 3.3.3.4 电解液pH值对修饰电极的影响 | 第68-69页 |
| 3.3.3.5 吸附时间对修饰电极的影响 | 第69-70页 |
| 3.3.4 毒死蜱分子印迹电化学传感器的性能研究 | 第70-72页 |
| 3.3.4.1 线性范围和检测限分析 | 第70页 |
| 3.3.4.2 再现性和稳定性分析 | 第70-71页 |
| 3.3.4.3 选择性分析 | 第71-72页 |
| 3.3.5 实际样品分析 | 第72-73页 |
| 3.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第4章 表面印迹/PtAu掺杂石墨烯-碳纳米管毒死蜱电化学传感器的制备及其应用研究 | 第74-89页 |
| 4.1 前言 | 第74页 |
| 4.2 实验部分 | 第74-77页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第74-75页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第75页 |
| 4.2.3 毒死蜱分子印迹聚合物的制备 | 第75页 |
| 4.2.4 掺杂PtAu的石墨烯-碳纳米管复合材料的制备 | 第75页 |
| 4.2.5 毒死蜱分子印迹电化学传感器的制备 | 第75-76页 |
| 4.2.6 电化学测定方法 | 第76页 |
| 4.2.7 实际样品的预处理 | 第76-77页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第77-87页 |
| 4.3.1 MIPs-SiO_2和PtAu-GrCNTs的形态结构特征 | 第77-79页 |
| 4.3.1.1 电镜分析 | 第77-78页 |
| 4.3.1.2 红外图谱(FT-IR)分析和N_2吸附-脱附表征 | 第78页 |
| 4.3.1.3 XRD分析 | 第78-79页 |
| 4.3.2 不同修饰电极的电化学特性分析 | 第79-81页 |
| 4.3.3 实验条件的优化 | 第81-84页 |
| 4.3.3.1 PtAu-GrCNTs浓度对修饰电极的影响 | 第81-82页 |
| 4.3.3.2 MIPs-SiO_2浓度对修饰电极的影响 | 第82页 |
| 4.3.3.3 电解液pH值对修饰电极的影响 | 第82-83页 |
| 4.3.3.4 吸附时间对修饰电极的影响 | 第83-84页 |
| 4.3.4 毒死蜱分子印迹电化学传感器的性能研究 | 第84-86页 |
| 4.3.4.1 线性范围和检测限分析 | 第84页 |
| 4.3.4.2 再现性和稳定性分析 | 第84-85页 |
| 4.3.4.3 选择性分析 | 第85-86页 |
| 4.3.5 实际样品分析 | 第86页 |
| 4.3.6 毒死蜱印迹电化学传感器与其它分析方法的比较 | 第86-87页 |
| 4.4 本章小结 | 第87-89页 |
| 第五章 结论和进一步工作建议 | 第89-92页 |
| 5.1 结论 | 第89-90页 |
| 5.2 进一步工作建议 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第109页 |
