柔性CuS透明导电薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 文献综述 | 第8-18页 |
| 1.1 透明导电膜概述 | 第8页 |
| 1.2 常见透明导电膜 | 第8-11页 |
| 1.2.1 ITO薄膜 | 第9页 |
| 1.2.2 FTO薄膜 | 第9-10页 |
| 1.2.3 ATO薄膜 | 第10页 |
| 1.2.4 AZO薄膜 | 第10-11页 |
| 1.3 透明导电膜的应用 | 第11-12页 |
| 1.4 透明导电膜研究现状 | 第12-13页 |
| 1.5 Cu_xS透明导电膜 | 第13-17页 |
| 1.5.1 性质概述 | 第13-14页 |
| 1.5.2 制备方法 | 第14-16页 |
| 1.5.3 研究现状 | 第16-17页 |
| 1.6 本文的研究目的和内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验部分 | 第18-24页 |
| 2.1 材料与试剂 | 第18-19页 |
| 2.2 仪器与设备 | 第19页 |
| 2.3 实验步骤 | 第19-21页 |
| 2.3.1 基材预处理 | 第20页 |
| 2.3.2 反应物的选择和溶液配制 | 第20页 |
| 2.3.3 成膜反应 | 第20-21页 |
| 2.3.4 样品干燥处理 | 第21页 |
| 2.4 测试与表征 | 第21-24页 |
| 2.4.1 形貌表征 | 第21页 |
| 2.4.2 结构和组成测试 | 第21-22页 |
| 2.4.3 透光性测试 | 第22页 |
| 2.4.4 导电性测试 | 第22页 |
| 2.4.5 附着力测试 | 第22-23页 |
| 2.4.6 抗挠曲性测试 | 第23-24页 |
| 第3章 酸性体系中CuS透明导电薄膜的制备与表征 | 第24-42页 |
| 3.1 组成与结构表征 | 第24-26页 |
| 3.1.1 EDS结果分析 | 第24-25页 |
| 3.1.2 XRD结果分析 | 第25-26页 |
| 3.2 透光性与导电性及其影响因素 | 第26-36页 |
| 3.2.1 铜源种类的影响 | 第26-28页 |
| 3.2.2 硫源种类的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.3 铜硫摩尔比的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.4 络合剂种类的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.5 反应温度的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.6 反应时间的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.7 干燥温度的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.8 透光性与导电性的兼顾 | 第35-36页 |
| 3.3 附着力及其影响因素 | 第36-37页 |
| 3.4 沉积均匀性研究 | 第37-38页 |
| 3.5 抗挠曲性研究 | 第38-42页 |
| 第4章 碱性体系中CuS透明导电薄膜的制备与表征 | 第42-56页 |
| 4.1 EDS与XRD表征 | 第42-44页 |
| 4.1.1 EDS结果分析 | 第42-43页 |
| 4.1.2 XRD结果分析 | 第43-44页 |
| 4.2 导电性及其影响因素 | 第44-48页 |
| 4.2.1 反应温度和反应时间的影响 | 第44-46页 |
| 4.2.2 反应物浓度的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.3 络合剂浓度的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.4 干燥条件的影响 | 第48页 |
| 4.3 透光性研究 | 第48-50页 |
| 4.4 沉积均匀性研究 | 第50-52页 |
| 4.5 附着力研究 | 第52页 |
| 4.6 抗挠曲性研究 | 第52-56页 |
| 第5章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
