| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 GaN基LED的研究 | 第11-16页 |
| 1.1.1 GaN材料的基本结构及特性 | 第11-13页 |
| 1.1.2 GaN基LED的研究进展 | 第13-16页 |
| 1.2 光通信技术 | 第16-20页 |
| 1.2.1 无线光通信 | 第16页 |
| 1.2.2 可见光通信的发展及其面临的问题 | 第16-20页 |
| 1.3 本论文的构成 | 第20-21页 |
| 第二章 可见光通信LED的制备技术及调制特性 | 第21-35页 |
| 2.1 GaN基材料生长制备的关键技术及实验方法 | 第21-28页 |
| 2.1.1 MOCVD外延生长技术 | 第21-23页 |
| 2.1.2 感应耦合等离子体刻蚀技术 | 第23-25页 |
| 2.1.3 光刻 | 第25-26页 |
| 2.1.4 压焊 | 第26-27页 |
| 2.1.5 电致发光 | 第27-28页 |
| 2.2 LED的调制特性理论 | 第28-32页 |
| 2.3 提高LED调制速度的设计方案 | 第32-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 可见光通信LED的器件制备及调制带宽的测试 | 第35-52页 |
| 3.1 实验方案的设计 | 第35-37页 |
| 3.2 工艺制作过程 | 第37-44页 |
| 3.3 调试带宽测试系统的搭建 | 第44-51页 |
| 3.3.1 LED调制特性测试原理 | 第44-45页 |
| 3.3.2 压焊制版 | 第45-47页 |
| 3.3.3 初期测试系统 | 第47-48页 |
| 3.3.4 测试系统的改进 | 第48-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 台面尺寸对LED光学特性的影响 | 第52-65页 |
| 4.1 不同台面尺寸下的I-V特性比较 | 第52-54页 |
| 4.2 不同台面尺寸下的E-L特性比较 | 第54-60页 |
| 4.3 不同台面尺寸下的P-I特性比较 | 第60-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 台面尺寸对LED调制特性的影响 | 第65-75页 |
| 5.1 不同台面下的带宽测试结果 | 第66-72页 |
| 5.2 电流对调制带宽的影响分析 | 第72-73页 |
| 5.3 台面尺寸对调制带宽的影响分析 | 第73-74页 |
| 5.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81页 |