中文摘要 | 第6-8页 |
英文摘要 | 第8-9页 |
第一章 概述 | 第12-23页 |
1.1 研究背景 | 第12-15页 |
1.1.1 抗生素的污染现状 | 第12-14页 |
1.1.2 四环素的处理工艺及现状 | 第14-15页 |
1.2 低温等离子体水处理技术概述 | 第15-18页 |
1.2.1 等离子体概念及特征 | 第15页 |
1.2.2 低温等离子体的放电形式 | 第15-16页 |
1.2.3 低温等离子体技术的降解机理 | 第16-17页 |
1.2.4 存在的问题和发展趋势 | 第17-18页 |
1.3 半导体光催化剂概述 | 第18-20页 |
1.3.1 半导体光催化的原理及可见光催化途径 | 第18-19页 |
1.3.2 纳米催化材料制备方法 | 第19页 |
1.3.3 纳米材料的物化特性 | 第19-20页 |
1.4 钼酸铋的结构特征及光催化研究现状 | 第20-21页 |
1.5 钼酸铋的研究现状及意义 | 第21-22页 |
1.6 本课题的提出及研究内容 | 第22-23页 |
第二章 实验材料及试验方法 | 第23-31页 |
2.1 实验材料 | 第23-24页 |
2.1.1 四环素的性质 | 第23页 |
2.1.2 实验所用试剂 | 第23-24页 |
2.2 实验装置 | 第24-25页 |
2.3 实验仪器 | 第25-26页 |
2.4 分析方法 | 第26-30页 |
2.4.1 材料表征方法 | 第26-27页 |
2.4.2 成分分析 | 第27页 |
2.4.3 性质分析 | 第27页 |
2.4.4 TC溶液的测定 | 第27-30页 |
2.4.5 TOC的测定 | 第30页 |
2.4.6 TC降解中间产物的测定 | 第30页 |
2.4.7 其他参数的测定 | 第30页 |
2.5 本章小结 | 第30-31页 |
第三章 等离子体协同催化剂钼酸铋处理水中四环素的研究 | 第31-46页 |
3.1 引言 | 第31-32页 |
3.2 实验过程及方法 | 第32页 |
3.3 催化剂的制备及表征分析 | 第32-36页 |
3.3.1 XRD分析 | 第32-33页 |
3.3.2 SEM表征分析 | 第33-34页 |
3.3.3 TEM表征分析 | 第34-35页 |
3.3.4 BET和成分分析 | 第35页 |
3.3.5 催化剂的的反应特性 | 第35-36页 |
3.4 半导体光催化性能研究 | 第36-44页 |
3.4.1 催化剂的沉降性和吸附性能研究 | 第36-38页 |
3.4.2 放电反应中的电流电压波形图 | 第38页 |
3.4.3 催化剂加入量对对四环素去除率的影响 | 第38-39页 |
3.4.4 溶液中四环素的初始浓度对四环素去除率的影响 | 第39-40页 |
3.4.5 电源输入功率对对四环素去除率的影响 | 第40-42页 |
3.4.6 初始pH对四环素去除率的影响 | 第42-43页 |
3.4.7 钼酸铋催化剂在反应体系中的稳定特性 | 第43-44页 |
3.5 本章小结 | 第44-46页 |
第四章 四环素降解过程分析及机理研究 | 第46-54页 |
4.1 引言 | 第46页 |
4.2 四环素降解过程中PH值和电导率的变化 | 第46-47页 |
4.3 四环素降解过程中的TOC变化 | 第47-48页 |
4.4 四环素降解过程中的可生化性实验研究 | 第48-49页 |
4.5 四环素降解过程中UV-VIS光谱图的变化 | 第49页 |
4.6 四环素降解产物及其降解途径的分析 | 第49-53页 |
4.7 本章小结 | 第53-54页 |
第五章 总结与展望 | 第54-57页 |
5.1 实验结论 | 第54-56页 |
5.2 研究中存在的问题及展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-63页 |
附录: 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |