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低温等离子体协同光催化钼酸铋处理水中四环素的研究

中文摘要第6-8页
英文摘要第8-9页
第一章 概述第12-23页
    1.1 研究背景第12-15页
        1.1.1 抗生素的污染现状第12-14页
        1.1.2 四环素的处理工艺及现状第14-15页
    1.2 低温等离子体水处理技术概述第15-18页
        1.2.1 等离子体概念及特征第15页
        1.2.2 低温等离子体的放电形式第15-16页
        1.2.3 低温等离子体技术的降解机理第16-17页
        1.2.4 存在的问题和发展趋势第17-18页
    1.3 半导体光催化剂概述第18-20页
        1.3.1 半导体光催化的原理及可见光催化途径第18-19页
        1.3.2 纳米催化材料制备方法第19页
        1.3.3 纳米材料的物化特性第19-20页
    1.4 钼酸铋的结构特征及光催化研究现状第20-21页
    1.5 钼酸铋的研究现状及意义第21-22页
    1.6 本课题的提出及研究内容第22-23页
第二章 实验材料及试验方法第23-31页
    2.1 实验材料第23-24页
        2.1.1 四环素的性质第23页
        2.1.2 实验所用试剂第23-24页
    2.2 实验装置第24-25页
    2.3 实验仪器第25-26页
    2.4 分析方法第26-30页
        2.4.1 材料表征方法第26-27页
        2.4.2 成分分析第27页
        2.4.3 性质分析第27页
        2.4.4 TC溶液的测定第27-30页
        2.4.5 TOC的测定第30页
        2.4.6 TC降解中间产物的测定第30页
        2.4.7 其他参数的测定第30页
    2.5 本章小结第30-31页
第三章 等离子体协同催化剂钼酸铋处理水中四环素的研究第31-46页
    3.1 引言第31-32页
    3.2 实验过程及方法第32页
    3.3 催化剂的制备及表征分析第32-36页
        3.3.1 XRD分析第32-33页
        3.3.2 SEM表征分析第33-34页
        3.3.3 TEM表征分析第34-35页
        3.3.4 BET和成分分析第35页
        3.3.5 催化剂的的反应特性第35-36页
    3.4 半导体光催化性能研究第36-44页
        3.4.1 催化剂的沉降性和吸附性能研究第36-38页
        3.4.2 放电反应中的电流电压波形图第38页
        3.4.3 催化剂加入量对对四环素去除率的影响第38-39页
        3.4.4 溶液中四环素的初始浓度对四环素去除率的影响第39-40页
        3.4.5 电源输入功率对对四环素去除率的影响第40-42页
        3.4.6 初始pH对四环素去除率的影响第42-43页
        3.4.7 钼酸铋催化剂在反应体系中的稳定特性第43-44页
    3.5 本章小结第44-46页
第四章 四环素降解过程分析及机理研究第46-54页
    4.1 引言第46页
    4.2 四环素降解过程中PH值和电导率的变化第46-47页
    4.3 四环素降解过程中的TOC变化第47-48页
    4.4 四环素降解过程中的可生化性实验研究第48-49页
    4.5 四环素降解过程中UV-VIS光谱图的变化第49页
    4.6 四环素降解产物及其降解途径的分析第49-53页
    4.7 本章小结第53-54页
第五章 总结与展望第54-57页
    5.1 实验结论第54-56页
    5.2 研究中存在的问题及展望第56-57页
参考文献第57-63页
附录: 攻读硕士学位期间取得的成果第63-65页
致谢第65-66页

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