| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 图、表清单 | 第9-11页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·LaAlO_3 晶体的结构、性质及应用 | 第13-18页 |
| ·LaAlO_3 的晶体结构及相变 | 第13-15页 |
| ·LaAlO_3 晶体的性能计算 | 第15-17页 |
| ·LaAlO_3 的性质及应用 | 第17-18页 |
| ·LaAlO_3 薄膜的制备及研究 | 第18-23页 |
| ·化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·溅射法 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第21-22页 |
| ·分子束外延沉积法 | 第22-23页 |
| ·LaAlO_3 材料光学特性研究 | 第23-24页 |
| ·本文主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 LaAlO_3薄膜的制备、退火处理及性能测试 | 第25-36页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第25-27页 |
| ·物质的溅射现象 | 第25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第25-26页 |
| ·射频磁控溅射原理及特点 | 第26-27页 |
| ·射频磁控溅射法制备LaAlO_3 薄膜 | 第27-31页 |
| ·磁控溅射设备 | 第27-28页 |
| ·溅射工艺参数及影响 | 第28-29页 |
| ·LaAlO_3 薄膜的制备工艺流程 | 第29-31页 |
| ·LaAlO_3 薄膜的后退火处理 | 第31-33页 |
| ·退火设备介绍 | 第31-32页 |
| ·退火实验过程 | 第32-33页 |
| ·LaAlO_3 薄膜性能测试 | 第33-35页 |
| ·结构分析 | 第33页 |
| ·表面形貌分析 | 第33-34页 |
| ·光学性质分析 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 退火处理对LaAlO_3薄膜结构和形貌的影响 | 第36-47页 |
| ·测试仪器介绍 | 第36-37页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第36-37页 |
| ·多功能扫描探针显微镜 | 第37页 |
| ·XRD 结果与分析 | 第37-41页 |
| ·AFM 结果与分析 | 第41-46页 |
| ·LaAlO_3 薄膜二维及三维表面形貌 | 第41-45页 |
| ·粗糙度分析 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 LaAlO_3薄膜光学特性研究 | 第47-59页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·光谱测试仪器介绍 | 第48-51页 |
| ·光栅光谱仪 | 第48-50页 |
| ·荧光分光光度计 | 第50-51页 |
| ·LaAlO_3 薄膜吸收光谱 | 第51-53页 |
| ·退火处理对LaAlO_3 薄膜PL 谱的影响 | 第53-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| ·总结 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 在学期间发表的学术论文、参与项目及获奖情况 | 第68页 |