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半导体激光熔覆Ni/WC_p耐磨复合涂层的研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
1 绪论第11-17页
    1.1 研究背景及目的第11-12页
    1.2 激光熔覆镍基复合涂层国内外研究现状第12-14页
    1.3 研究内容和创新点第14-16页
    1.4 技术路线第16-17页
2 试验材料、设备及试验方法第17-22页
    2.1 试验材料第17-18页
        2.1.1 基体材料第17页
        2.1.2 熔覆粉末材料第17-18页
    2.2 试验设备及分析方法第18-22页
        2.2.1 熔覆层的制备第18-19页
        2.2.2 熔覆层组织及结构表征方法第19-20页
        2.2.3 熔覆层性能测试方法第20-22页
3 440/WC_p复合涂层激光熔覆工艺参数研究第22-33页
    3.1 激光功率对单道复合涂层的影响第24-27页
    3.2 熔覆材料对单道熔覆层的影响第27-29页
    3.3 多道熔覆层搭接实验结果第29-31页
    3.4 本章小结第31-33页
4 激光熔覆层的组织与结构分析第33-39页
    4.1 Ni/WC_p熔覆层显微组织研究第33-34页
    4.2 Ni/WC_p熔覆层精细组织结构分析第34-38页
    4.3 Ni/WC_p熔覆层物相分析第38页
    4.4 本章小结第38-39页
5 440/WC_p复合涂层硬度及摩擦磨损性能研究第39-51页
    5.1 熔覆层硬度分析第39-43页
    5.2 440 /WC_p复合涂层耐磨性能的研究第43-45页
    5.3 440 /WC_p复合涂层的摩擦区域形貌第45-48页
    5.4 熔覆层摩擦磨损机理分析第48-50页
    5.5 本章小结第50-51页
6 全文总结第51-53页
致谢第53-54页
参考文献第54-58页

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