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碱活化法制备活性炭过程中插层钾的脱插研究

摘要第2-3页
Abstract第3页
引言第6-7页
1 文献综述第7-21页
    1.1 活性炭的基本性质第7-11页
        1.1.1 活性炭的微观晶体结构第7-8页
        1.1.2 活性炭孔隙结构第8-10页
        1.1.3 活性炭的元素组成和表面结构第10-11页
    1.2 活性炭的制备方法第11-13页
    1.3 KOH活化法与性能调变第13-15页
        1.3.1 KOH活化机理第13-14页
        1.3.2 K-GICs的脱插机理第14-15页
    1.4 活性炭孔结构的调变方法第15-17页
        1.4.1 原料预处理第16页
        1.4.2 制备工艺条件对活性炭孔结构的影响第16-17页
        1.4.3 二次处理第17页
    1.5 活性炭表面性质的调变第17-18页
        1.5.1 硫化改性第18页
        1.5.2 氧化改性第18页
        1.5.3 卤素改性第18页
    1.6 活性炭的应用第18-19页
    1.7 本论文的选题依据及研究内容第19-21页
2 活性炭样品的制备与表征第21-28页
    2.1 活性炭样品的制备第21-22页
    2.2 实验工艺流程第22-24页
    2.3 活性炭产品的表征第24-28页
3 引H2S脱插结果分析第28-46页
    3.1 不同温度下引入H_2S对活性炭孔隙结构的影响第29-32页
    3.2 引入H2S对活性炭表面性质的影响第32-34页
        3.2.1 引入H_2S脱插产物的红外分析第32-33页
        3.2.2 引入H_2S脱插产物的元素分析及Boehm滴定第33-34页
    3.3 KOH的活化反应机理第34-39页
        3.3.1 KOH活化过程的尾气分析第34-35页
        3.3.2 KOH活化产物的红外分析第35-36页
        3.3.3 KOH活化产物的元素分析及Boehm滴定第36-37页
        3.3.4 KOH活化产物的XPS分析第37-38页
        3.3.5 KOH的活化过程第38-39页
    3.4 H2S脱插反应机理第39-42页
        3.4.1 H_2S脱插产物的X射线光电子能谱分析第39-41页
        3.4.2 H_2S的脱插过程第41-42页
    3.5 插层-脱插模型第42-45页
    3.6 本章小结第45-46页
4 不同脱插试剂对脱插结果的影响第46-61页
    4.1 不同温度下引入H_2O对活性炭孔隙结构的影响第46-50页
    4.2 引入H_2O对活性炭表面性质的影响第50-52页
        4.2.1 引入H_2O脱插产物的红外分析第50-51页
        4.2.2 引入H_2O脱插产物的元素分析及Boehm滴定第51-52页
    4.3 不同温度下引入HCl对活性炭孔隙结构的影响第52-55页
    4.4 引入HCl对活性炭表面性质的影响第55-57页
        4.4.1 引入HCl脱插产物的红外分析第55-56页
        4.4.2 引入HCl脱插产物的元素分析及Boehm滴定第56-57页
    4.5 不同脱插试剂对活性炭性质的影响第57-59页
    4.6 本章小结第59-61页
结论第61-62页
参考文献第62-66页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第66-67页
致谢第67-69页

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