EB-PVD制备氧化锆涂层及其阻尼性能研究
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-24页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 ZrO_2涂层及其阻尼性能研究现状 | 第12-18页 |
1.2.1 硬质涂层的阻尼机理及表征方法 | 第12-15页 |
1.2.2 氧化锆材料性能 | 第15页 |
1.2.3 ZrO_2涂层的阻尼特性研究现状 | 第15-18页 |
1.3 ZrO_2涂层的几种制备方法 | 第18-21页 |
1.3.1 溅射法 | 第18-19页 |
1.3.2 电子束蒸发法 | 第19-20页 |
1.3.3 等离子喷涂 | 第20-21页 |
1.4 有限元法在涂层研究中的应用 | 第21页 |
1.5 课题的研究意义及主要内容 | 第21-24页 |
第2章 实验原理和方法 | 第24-38页 |
2.1 电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术 | 第24-27页 |
2.1.1 EB-PVD工艺特点 | 第24-25页 |
2.1.2 EB-PVD技术工艺参数选择 | 第25-27页 |
2.2 电子束蒸发镀膜设备 | 第27-30页 |
2.2.1 真空获得系统 | 第28页 |
2.2.2 U型方箱立式真空室 | 第28-29页 |
2.2.3 控制和检测系统 | 第29-30页 |
2.3 实验材料 | 第30页 |
2.4 实验技术路线 | 第30-33页 |
2.4.1 实验过程设计 | 第31页 |
2.4.2 ZrO_2涂层制备工艺流程 | 第31-33页 |
2.5 涂层微观结构表征方法 | 第33-35页 |
2.5.1 表面形貌检测 | 第33-34页 |
2.5.2 化学成分分析 | 第34页 |
2.5.3 涂层厚度的测量 | 第34页 |
2.5.4 物相分析 | 第34-35页 |
2.6 涂层试样的阻尼性能测试 | 第35-37页 |
2.7 本章小结 | 第37-38页 |
第3章 ZrO_2涂层的表征和分析 | 第38-54页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 ZrO_2涂层的沉积速率及厚度控制 | 第38-39页 |
3.3 ZrO_2涂层物相分析 | 第39-44页 |
3.3.1 实验参数 | 第40页 |
3.3.2 XRD测试结果分析 | 第40-44页 |
3.4 ZrO_2涂层的晶粒大小和结晶过程分析 | 第44-46页 |
3.5 ZrO_2涂层微观应变分析 | 第46-48页 |
3.6 ZrO_2涂层表面形貌分析 | 第48-52页 |
3.6.1 基片温度对表面形貌的影响 | 第48-50页 |
3.6.2 蒸发束流对表面形貌的影响 | 第50-51页 |
3.6.3 真空度对表面形貌的影响 | 第51-52页 |
3.7 ZrO_2涂层的化学成分分析 | 第52-53页 |
3.8 本章小结 | 第53-54页 |
第4章 ZrO_2涂层的阻尼性能研究 | 第54-66页 |
4.1 阻尼测试 | 第54-55页 |
4.2 阻尼的振幅和频率相关性分析 | 第55-60页 |
4.2.1 引言 | 第55-57页 |
4.2.2 阻尼的振幅相关性 | 第57-59页 |
4.2.3 阻尼的频率相关性 | 第59-60页 |
4.3 ZrO_2涂层的损耗因子的影响因素分析 | 第60-63页 |
4.3.1 取向的影响 | 第60-61页 |
4.3.2 基片温度的影响 | 第61-62页 |
4.3.3 蒸发束流的影响 | 第62-63页 |
4.4 ZrO_2涂层的储能模量影响因素分析 | 第63-64页 |
4.4.1 基片温度的影响 | 第63页 |
4.4.2 蒸发束流的影响 | 第63-64页 |
4.5 本章小结 | 第64-66页 |
第5章 ZrO_2涂层的阻尼模态分析 | 第66-74页 |
5.1 引言 | 第66页 |
5.2 数值模拟方法在复合涂层中的应用 | 第66-67页 |
5.2.1 附加阻尼层结构 | 第66页 |
5.2.2 考虑微观结构的复合涂层的数值模拟 | 第66-67页 |
5.3 ZrO_2涂层阻尼模态分析 | 第67-73页 |
5.3.1 模态分析理论 | 第67-68页 |
5.3.2 建立模型 | 第68-69页 |
5.3.3 结果分析 | 第69-73页 |
5.4 本章小结 | 第73-74页 |
第6章 结论与展望 | 第74-76页 |
6.1 结论 | 第74-75页 |
6.2 展望 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-82页 |
致谢 | 第82页 |