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EB-PVD制备氧化锆涂层及其阻尼性能研究

摘要第6-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-24页
    1.1 引言第12页
    1.2 ZrO_2涂层及其阻尼性能研究现状第12-18页
        1.2.1 硬质涂层的阻尼机理及表征方法第12-15页
        1.2.2 氧化锆材料性能第15页
        1.2.3 ZrO_2涂层的阻尼特性研究现状第15-18页
    1.3 ZrO_2涂层的几种制备方法第18-21页
        1.3.1 溅射法第18-19页
        1.3.2 电子束蒸发法第19-20页
        1.3.3 等离子喷涂第20-21页
    1.4 有限元法在涂层研究中的应用第21页
    1.5 课题的研究意义及主要内容第21-24页
第2章 实验原理和方法第24-38页
    2.1 电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术第24-27页
        2.1.1 EB-PVD工艺特点第24-25页
        2.1.2 EB-PVD技术工艺参数选择第25-27页
    2.2 电子束蒸发镀膜设备第27-30页
        2.2.1 真空获得系统第28页
        2.2.2 U型方箱立式真空室第28-29页
        2.2.3 控制和检测系统第29-30页
    2.3 实验材料第30页
    2.4 实验技术路线第30-33页
        2.4.1 实验过程设计第31页
        2.4.2 ZrO_2涂层制备工艺流程第31-33页
    2.5 涂层微观结构表征方法第33-35页
        2.5.1 表面形貌检测第33-34页
        2.5.2 化学成分分析第34页
        2.5.3 涂层厚度的测量第34页
        2.5.4 物相分析第34-35页
    2.6 涂层试样的阻尼性能测试第35-37页
    2.7 本章小结第37-38页
第3章 ZrO_2涂层的表征和分析第38-54页
    3.1 引言第38页
    3.2 ZrO_2涂层的沉积速率及厚度控制第38-39页
    3.3 ZrO_2涂层物相分析第39-44页
        3.3.1 实验参数第40页
        3.3.2 XRD测试结果分析第40-44页
    3.4 ZrO_2涂层的晶粒大小和结晶过程分析第44-46页
    3.5 ZrO_2涂层微观应变分析第46-48页
    3.6 ZrO_2涂层表面形貌分析第48-52页
        3.6.1 基片温度对表面形貌的影响第48-50页
        3.6.2 蒸发束流对表面形貌的影响第50-51页
        3.6.3 真空度对表面形貌的影响第51-52页
    3.7 ZrO_2涂层的化学成分分析第52-53页
    3.8 本章小结第53-54页
第4章 ZrO_2涂层的阻尼性能研究第54-66页
    4.1 阻尼测试第54-55页
    4.2 阻尼的振幅和频率相关性分析第55-60页
        4.2.1 引言第55-57页
        4.2.2 阻尼的振幅相关性第57-59页
        4.2.3 阻尼的频率相关性第59-60页
    4.3 ZrO_2涂层的损耗因子的影响因素分析第60-63页
        4.3.1 取向的影响第60-61页
        4.3.2 基片温度的影响第61-62页
        4.3.3 蒸发束流的影响第62-63页
    4.4 ZrO_2涂层的储能模量影响因素分析第63-64页
        4.4.1 基片温度的影响第63页
        4.4.2 蒸发束流的影响第63-64页
    4.5 本章小结第64-66页
第5章 ZrO_2涂层的阻尼模态分析第66-74页
    5.1 引言第66页
    5.2 数值模拟方法在复合涂层中的应用第66-67页
        5.2.1 附加阻尼层结构第66页
        5.2.2 考虑微观结构的复合涂层的数值模拟第66-67页
    5.3 ZrO_2涂层阻尼模态分析第67-73页
        5.3.1 模态分析理论第67-68页
        5.3.2 建立模型第68-69页
        5.3.3 结果分析第69-73页
    5.4 本章小结第73-74页
第6章 结论与展望第74-76页
    6.1 结论第74-75页
    6.2 展望第75-76页
参考文献第76-82页
致谢第82页

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