| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 氢气传感器国内外研究现状 | 第12-17页 |
| 1.2.1 电化学型氢气传感器 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光学型氢气传感器 | 第13-14页 |
| 1.2.3 电阻型氢气传感器 | 第14-17页 |
| 1.3 选题依据及主要研究内容 | 第17-19页 |
| 1.3.1 选题依据 | 第17页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 PdNi、Pt和Si3N4薄膜的制备与表征 | 第19-31页 |
| 2.1 薄膜技术简介 | 第19-20页 |
| 2.2 薄膜表征方法 | 第20-22页 |
| 2.2.1 台阶仪 | 第20页 |
| 2.2.2 四探针测试仪 | 第20-21页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第21页 |
| 2.2.4 X射线衍射仪 | 第21-22页 |
| 2.2.5 能谱仪 | 第22页 |
| 2.3 PdNi薄膜的制备及性能研究 | 第22-26页 |
| 2.3.1 PdNi薄膜的制备及性能研究 | 第22-25页 |
| 2.3.2 PdNi薄膜的电阻温度系数标定 | 第25-26页 |
| 2.4 Pt薄膜的制备及性能研究 | 第26-27页 |
| 2.4.1 Pt薄膜的制备 | 第26-27页 |
| 2.4.2 Pt薄膜的电阻温度系数标定 | 第27页 |
| 2.5 Si_3N_4薄膜的制备及微观结构研究 | 第27-30页 |
| 2.6 本章小节 | 第30-31页 |
| 第三章 PdNi薄膜传感器的制备与性能标定 | 第31-53页 |
| 3.1 传感器的设计与制备 | 第31-40页 |
| 3.1.1 传感器结构设计 | 第31-32页 |
| 3.1.2 传感器制备流程 | 第32-40页 |
| 3.2 传感器性能标定系统 | 第40-44页 |
| 3.2.1 标定系统的搭建 | 第40-42页 |
| 3.2.2 传感器性能标定过程 | 第42-44页 |
| 3.3 传感器性能标定 | 第44-52页 |
| 3.3.1 钯金属及其合金材料的吸氢机制 | 第44-45页 |
| 3.3.2 传感器对氢气浓度的响应 | 第45-47页 |
| 3.3.3 传感器的重复性 | 第47页 |
| 3.3.4 退火气氛对传感器性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.5 温度对传感器性能的影响 | 第49-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 4.1 总结 | 第53-54页 |
| 4.2 展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第59页 |