蓝宝石基Er掺杂AlN薄膜材料制备研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 AlN薄膜的特性 | 第11-13页 |
| 1.3 AlN薄膜的应用 | 第13-21页 |
| 1.3.1 声表面波器件 | 第14-15页 |
| 1.3.2 薄膜体声波谐振器 | 第15-18页 |
| 1.3.3 微压电超声换能器 | 第18-19页 |
| 1.3.4 压电式微能量收集器 | 第19-20页 |
| 1.3.5 其他应用 | 第20-21页 |
| 1.4 AlN薄膜的国内外研究现状 | 第21-24页 |
| 1.5 本文研究内容与目的 | 第24-25页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征方法 | 第25-39页 |
| 2.1 薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积法 | 第25-26页 |
| 2.1.2 真空蒸镀法 | 第26页 |
| 2.1.3 分子束外延 | 第26-27页 |
| 2.1.4 磁控溅射法 | 第27-28页 |
| 2.1.5 金属有机物化学气相沉积法 | 第28页 |
| 2.2 薄膜的制备工艺 | 第28-32页 |
| 2.2.1 反应磁控溅射的工作原理 | 第28-29页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第29-31页 |
| 2.2.3 实验工艺流程 | 第31页 |
| 2.2.4 电极层的制备 | 第31-32页 |
| 2.3 薄膜的表征方法 | 第32-39页 |
| 2.3.1 薄膜晶体结构和表面形貌的表征 | 第32-35页 |
| 2.3.2 元素组分、膜厚和薄基结合力表征 | 第35-36页 |
| 2.3.3 电学性能表征 | 第36-39页 |
| 第三章 蓝宝石基ErAlN薄膜结构及元素组分研究 | 第39-54页 |
| 3.1 溅射功率对薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| 3.1.1 溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第39-40页 |
| 3.1.2 溅射功率对薄膜晶体结构的影响 | 第40-41页 |
| 3.1.3 溅射功率对薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| 3.2 氮气浓度对薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| 3.2.1 氮气浓度对薄膜沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| 3.2.2 氮气浓度对薄膜晶体结构的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.3 氮气浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| 3.3 溅射气压对薄膜性能的影响 | 第45-48页 |
| 3.3.1 溅射气压对薄膜沉积速率的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.2 溅射气压对薄膜晶体结构的影响 | 第46-47页 |
| 3.3.3 溅射气压对薄膜表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| 3.4 衬底温度对薄膜性能的影响 | 第48-52页 |
| 3.4.1 衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第49页 |
| 3.4.2 衬底温度对薄膜晶体结构的影响 | 第49-51页 |
| 3.4.3 衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
| 3.5 ErAlN薄膜的EDS元素组分研究 | 第52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 蓝宝石基ErAlN薄膜电学及力学性能研究 | 第54-60页 |
| 4.1 薄膜绝缘性能研究 | 第54-57页 |
| 4.1.1 溅射功率对薄膜绝缘性能的影响 | 第54-55页 |
| 4.1.2 氮气浓度对薄膜绝缘性能的影响 | 第55页 |
| 4.1.3 溅射气压对薄膜绝缘性能的影响 | 第55-56页 |
| 4.1.4 衬底温度对薄膜绝缘性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.2 薄膜介电性能与压电性能研究 | 第57-58页 |
| 4.3 薄膜的膜基结合力研究 | 第58-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 5.1 总结 | 第60-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第68页 |
