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基于非晶碳阻变存储器性能提升及器件可靠性的探究

中文摘要第4-5页
英文摘要第5-6页
引言第9-11页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 非易失存储器概述第11-15页
        1.1.1 半导体集成技术的发展现状第11-12页
        1.1.2 非易失存储器及其发展瓶颈第12-13页
        1.1.3 新型非易失存储器简介第13-15页
    1.2 阻变式存储器简介第15-22页
        1.2.1 阻变存储器的发展历程第15-16页
        1.2.2 阻变存储器的基本工作原理第16-17页
        1.2.3 阻变存储器的导电通道模型第17-20页
        1.2.4 阻变存储器的材料体系第20-22页
    1.3 非晶碳材料阻变存储器的研究现状第22页
    1.4 本论文的选题内容及研究意义第22-23页
第二章 非晶碳材料阻变器件的制备及表征第23-32页
    2.1 非晶碳材料阻变器件的制备第23-26页
        2.1.1 衬底清洗第23-24页
        2.1.2 磁控溅射法沉积制备介质层薄膜第24-25页
        2.1.3 热蒸镀活性金属Ag顶电极第25-26页
    2.2 器件阻变层材料的表征方法第26-31页
        2.2.1 拉曼光谱仪(Raman)第26-27页
        2.2.2 X射线光电子能谱仪(XPS)第27-28页
        2.2.3 原子力显微镜(AFM)第28-29页
        2.2.4 扫描电子显微镜(SEM)第29-31页
    2.3 器件电学测试仪器第31-32页
        2.3.1 直流(DC)测试装置第31页
        2.3.2 脉冲(AC)测试装置第31-32页
第三章 非晶碳材料阻变存储器的原理及其性能提升第32-50页
    3.1 Pt/a-C/Ag结构阻变存储器的阻变行为探究第32-36页
        3.1.1 Pt/a-C/Ag器件的基本阻变行为第32-34页
        3.1.2 Pt/a-C/Ag器件阻变参数波动的原因分析第34-36页
    3.2 Pt/a-C/AIST/Ag器件的阻变行为探究第36-37页
        3.2.1 Pt/a-C/AIST/Ag器件的基本阻变性能第36-37页
        3.2.2 Pt/a-C/AIST/Ag器件的基本参数波动分析第37页
    3.3 不同阻变层厚度的优化第37-40页
        3.3.1 不同缓冲层厚度下的操作电压分析第38-39页
        3.3.2 不同缓冲层厚度下的电阻态分析第39-40页
    3.4 Pt/a-C/AIST/Ag器件性能测试第40-42页
        3.4.1 Pt/a-C/AIST/Ag器件的保持特性测试第40页
        3.4.2 Pt/a-C/AIST/Ag器件响应速度测试第40-41页
        3.4.3 Pt/a-C/AIST/Ag器件寿命测试第41-42页
    3.5 Pt/a-C/Ag和Pt/a-C/AIST/Ag器件阻变机制模型的探究第42-50页
        3.5.1 缓冲层材料AIST对器件操作电压的影响第42-45页
        3.5.2 缓冲层材料AIST对器件操作过冲电流的抑制第45-46页
        3.5.3 Pt/a-C/AIST/Ag器件在不同温度下的阻变行为探究第46-47页
        3.5.4 Pt/a-C/Ag和Pt/a-C/AIST/Ag器件的阻变机制模型的构建第47-50页
第四章 非晶碳阻变存储器在特殊环境下的阻变测试第50-55页
    4.1 中子辐照对Pt/a-C/AIST/Ag器件阻变参数的影响探究第50-52页
        4.1.1 中子辐照对器件基本阻变行为的影响第51页
        4.1.2 中子辐照对器件阻变参数的影响第51-52页
    4.2 X射线辐照对Pt/a-C/AIST/Ag器件阻变行为的影响探究第52-53页
    4.3 激光辐照对Pt/a-C/AIST/Ag器件阻变行为的影响探究第53-55页
        4.3.1 强激光辐照下器件的基本阻变性能第53-54页
        4.3.2 强激光辐照下器件对器件阻变参数影响第54-55页
第五章 结论第55-56页
参考文献第56-63页
致谢第63-64页
在学期间公开发表论文及著作情况第64页

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