碳氮纳米锥薄膜制备及特性研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 引言 | 第9-13页 |
| 1.1 碳氮薄膜 | 第9-11页 |
| 1.1.1 碳氮薄膜的特性 | 第9-10页 |
| 1.1.2 碳氮薄膜的制备方法 | 第10-11页 |
| 1.2 碳氮纳米结构材料 | 第11-12页 |
| 1.3 本文的研究内容和安排 | 第12-13页 |
| 第二章 等离子体沉积薄膜技术 | 第13-18页 |
| 2.1 气体放电和其物理过程 | 第13-14页 |
| 2.1.1 气体放电 | 第13-14页 |
| 2.1.2 气体放电物理过程 | 第14页 |
| 2.2 等离子体化学气相沉积(PCVD) | 第14-16页 |
| 2.2.1 PCVD概述 | 第14-15页 |
| 2.2.2 PCVD系统中的等离子体性质 | 第15页 |
| 2.2.3 PCVD沉积薄膜的设备和工艺 | 第15-16页 |
| 2.2.4 PCVD技术的应用 | 第16页 |
| 2.3 原子束辅助脉冲激光烧蚀沉积技术(PLD) | 第16-18页 |
| 第三章 碳氮纳米锥薄膜制备 | 第18-30页 |
| 3.1 引言 | 第18-19页 |
| 3.2 实验装置介绍和制备环节 | 第19-21页 |
| 3.2.1 实验装置介绍 | 第19-20页 |
| 3.2.2 碳氮纳米锥薄膜制备环节 | 第20-21页 |
| 3.3 碳氮纳米结构薄膜生长条件影响 | 第21-26页 |
| 3.3.1 衬底的选择 | 第21页 |
| 3.3.2 气体的选择 | 第21-24页 |
| 3.3.3 气体流量比 | 第24-25页 |
| 3.3.4 针尖和衬底间距离的影响 | 第25-26页 |
| 3.4 放电等离子体发射光谱分析 | 第26-29页 |
| 3.5 本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 碳氮纳米锥薄膜表征和特性研究 | 第30-40页 |
| 4.1 引言 | 第30页 |
| 4.2 碳氮纳米锥薄膜的表征 | 第30-36页 |
| 4.2.1 碳氮纳米锥薄膜形貌(SEM) | 第30-32页 |
| 4.2.2 碳氮纳米锥薄膜结构和组分(TEM) | 第32-34页 |
| 4.2.3 碳氮纳米结构薄膜元素分析(XPS) | 第34-36页 |
| 4.3 碳氮纳米锥薄膜特性研究 | 第36-39页 |
| 4.3.1 碳氮纳米锥薄膜的电学特性 | 第36-37页 |
| 4.3.2 碳氮纳米锥薄膜的光学特性 | 第37-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 总结与展望 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 后记 | 第46-47页 |
