| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 前言 | 第9-11页 |
| 1.2 透明导电薄膜概述 | 第11-12页 |
| 1.3 氧化锌（ZnO）简介 | 第12-17页 |
| 1.3.1 ZnO 的基本性质 | 第12页 |
| 1.3.2 ZnO 的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.3.3 ZnO 的能带结构 | 第13-15页 |
| 1.3.4 ZnO 的掺杂 | 第15-16页 |
| 1.3.5 ZnO 透明导电薄膜 | 第16-17页 |
| 1.4 ZnO:B 薄膜的研究现状 | 第17-23页 |
| 1.4.1 ZnO:B 薄膜的性能 | 第17-18页 |
| 1.4.2 ZnO:B 薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.3 ZnO:B 薄膜在太阳电池中的应用 | 第20-23页 |
| 1.5 选题意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第23-24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 ZNO:B 薄膜的制备与表征 | 第25-39页 |
| 2.1 实验流程图 | 第25-26页 |
| 2.2 ZnO:B 薄膜的制备 | 第26-31页 |
| 2.2.1 溅射镀膜技术 | 第26-28页 |
| 2.2.2 薄膜沉积设备 | 第28-29页 |
| 2.2.3 薄膜制备条件 | 第29-30页 |
| 2.2.4 薄膜沉积过程 | 第30-31页 |
| 2.3 ZnO:B 薄膜的表征方法 | 第31-39页 |
| 2.3.1 薄膜相结构分析 | 第31-32页 |
| 2.3.2 薄膜形貌分析 | 第32-34页 |
| 2.3.3 薄膜厚度测量 | 第34页 |
| 2.3.4 薄膜电学性能测量 | 第34-36页 |
| 2.3.5 薄膜光学性能测量 | 第36-39页 |
| 第3章 溅射工艺对 ZNO:B 薄膜结构、性能影响规律研究 | 第39-58页 |
| 3.1 衬底温度 | 第39-43页 |
| 3.1.1 衬底温度对薄膜结构特性的影响 | 第39-41页 |
| 3.1.2 衬底温度对薄膜电学特性的影响 | 第41-42页 |
| 3.1.3 衬底温度对薄膜光学特性的影响 | 第42-43页 |
| 3.2 溅射功率 | 第43-47页 |
| 3.2.1 溅射功率对薄膜结构特性的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.2 溅射功率对薄膜电学特性的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.3 溅射功率对薄膜光学特性的影响 | 第46-47页 |
| 3.3 溅射气压 | 第47-51页 |
| 3.3.1 溅射气压对薄膜沉积速率的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.2 溅射气压对薄膜电学特性的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.3 溅射气压对薄膜光学特性的影响 | 第49-51页 |
| 3.4 溅射时间 | 第51-56页 |
| 3.4.1 溅射时间对薄膜结构特性的影响 | 第52-54页 |
| 3.4.2 溅射时间对薄膜电学特性的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.3 溅射时间对薄膜光学特性的影响 | 第55-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第4章 ZNO:B 薄膜的透明导电特性研究 | 第58-63页 |
| 4.1 结构特性 | 第58-59页 |
| 4.2 形貌分析 | 第59-60页 |
| 4.3 电学特性 | 第60页 |
| 4.4 光学特性 | 第60-61页 |
| 4.5 性能指数 | 第61-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 结论与展望 | 第63-66页 |
| 5.1 主要结论 | 第63-64页 |
| 5.2 论文创新点 | 第64页 |
| 5.3 未来的工作与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |