| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-30页 |
| 1.1 AlF_3催化剂 | 第10-11页 |
| 1.2 氟化铝各相态的制备 | 第11-17页 |
| 1.2.1 无定形氟化铝 | 第11-13页 |
| 1.2.2 β-AlF_3的合成 | 第13-14页 |
| 1.2.3 α-AlF_3的合成 | 第14-17页 |
| 1.2.4 γ-AlF_3的合成 | 第17页 |
| 1.2.5 其它相态的氟化铝的合成 | 第17页 |
| 1.3 AlF_3的理论研究 | 第17-23页 |
| 1.3.1 α-AlF_3的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3.2 β-AlF_3的研究现状 | 第19-23页 |
| 1.4 CH_2CHF的生产工艺 | 第23-25页 |
| 1.4.1 乙炔和氟化氢反应 | 第24页 |
| 1.4.2 1-氯-1-氟乙烷(HCFC-151a)裂解 | 第24-25页 |
| 1.4.3 氯乙烯(VC)氟化 | 第25页 |
| 1.4.4 1-氟-2-氯乙烷裂解 | 第25页 |
| 1.4.5 1,2-二氟乙烷裂解 | 第25页 |
| 1.4.6 HFC-152a裂解 | 第25页 |
| 1.5 HFC-152a | 第25-28页 |
| 1.5.1 HFC-152a的性质 | 第25-26页 |
| 1.5.2 HFC-152a的制备方法 | 第26-27页 |
| 1.5.3 HFC-152a的应用 | 第27-28页 |
| 1.6 选题依据与研究内容 | 第28-30页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第28-29页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 密度泛函理论基础 | 第30-36页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第30-33页 |
| 2.1.1 发展历程 | 第30-32页 |
| 2.1.2 Kohn-Sham方程 | 第32-33页 |
| 2.2 赝势方法 | 第33-34页 |
| 2.3 过渡态计算 | 第34页 |
| 2.4 软件简介 | 第34-36页 |
| 2.4.1 Materials Studio | 第34-35页 |
| 2.4.2 VASP | 第35-36页 |
| 第三章 HF在α-AlF_3(0001)表面吸附的密度泛函理论研究 | 第36-48页 |
| 3.1 模型与计算方法 | 第36-38页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第38-46页 |
| 3.2.1 模型可靠性的验证 | 第38页 |
| 3.2.2 HF在α-AlF_3(0001)表面的吸附 | 第38-43页 |
| 3.2.3 差分电荷密度 | 第43-44页 |
| 3.2.4 态密度图分析 | 第44-46页 |
| 3.3 结论 | 第46-48页 |
| 第四章 C_2H_2在氟化铝(AlF_3)表面吸附的密度泛函理论研究 | 第48-58页 |
| 4.1 模型与计算方法 | 第48-50页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第50-56页 |
| 4.2.1 C_2H_2在α-AlF_3(0001)-p(1×1)吸附构型与吸附能 | 第50-53页 |
| 4.2.2 态密度图分析 | 第53-56页 |
| 4.2.3 差分电荷密度 | 第56页 |
| 4.3 结论 | 第56-58页 |
| 第五章 C_2H_2在氟化铝(AlF_3)表面氟化的密度泛函理论研究 | 第58-66页 |
| 5.1 计算方法与模型 | 第59-60页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第60-63页 |
| 5.2.1 C_2H_2氟化为CH_2CHF的反应机理 | 第60-62页 |
| 5.2.2 CH_2CHF(VF)氟化为CH_3CHF_2(HFC-152a)的反应机理 | 第62-63页 |
| 5.3 结论 | 第63-66页 |
| 参考文献 | 第66-73页 |
| 作者简介、攻读学位期间取得的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
