| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 直写技术概述 | 第11-17页 |
| 1.2.1 微喷射直写技术 | 第12-13页 |
| 1.2.2 微流动直写技术 | 第13-14页 |
| 1.2.3 纳米探针直写技术 | 第14-15页 |
| 1.2.4 能束辅助直写技术 | 第15-17页 |
| 1.3 含能墨水直写技术概述 | 第17-18页 |
| 1.4 含能墨水直写技术发展现状 | 第18-22页 |
| 1.5 本文主要工作 | 第22-23页 |
| 2 含能墨水配方设计 | 第23-38页 |
| 2.1 含能墨水配方组分 | 第23-29页 |
| 2.1.1 纳米CL-20炸药 | 第23-25页 |
| 2.1.2 粘结剂体系 | 第25-26页 |
| 2.1.3 添加剂 | 第26-29页 |
| 2.2 含能墨水制备工艺 | 第29-31页 |
| 2.2.1 溶胶态CL-20含能墨水制备工艺 | 第29-30页 |
| 2.2.2 悬浮态CL-20含能墨水制备工艺 | 第30-31页 |
| 2.3 含能墨水配方分析 | 第31-36页 |
| 2.3.1 含能墨水稳定性研究 | 第31-34页 |
| 2.3.2 含能墨水直写特性研究与表征 | 第34-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 3 CL-20含能墨水直写系统与直写规律 | 第38-57页 |
| 3.1 含能墨水微笔沉积直写系统 | 第38-42页 |
| 3.1.1 直写系统软件 | 第38-39页 |
| 3.1.2 直写系统硬件 | 第39-40页 |
| 3.1.3 直写系统固化光源 | 第40-42页 |
| 3.2 含能墨水微笔沉积直写规律 | 第42-49页 |
| 3.2.1 纳米CL-20含能墨水制备 | 第42-43页 |
| 3.2.2 含能墨水微笔沉积直写特性 | 第43-49页 |
| 3.3 含能墨水直写流动模拟 | 第49-56页 |
| 3.3.1 喷射流动理论分析和网格模型 | 第50-51页 |
| 3.3.2 含能墨水流动分析 | 第51-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 4 CL-20含能墨水直写装药传爆性能 | 第57-73页 |
| 4.1 CL-20含能墨水传爆爆速 | 第57-62页 |
| 4.1.1 爆速测试系统 | 第57-59页 |
| 4.1.2 结果和分析 | 第59-62页 |
| 4.2 CL-20含能墨水传爆临界尺寸 | 第62-63页 |
| 4.3 CL-20含能墨水微尺度直写装药传爆性能验证 | 第63-66页 |
| 4.3.1 CL-20含能墨水微尺度装药模具 | 第63-64页 |
| 4.3.2 CL-20含能墨水微尺度装药 | 第64-66页 |
| 4.4 含能墨水直写装药传爆性能模拟 | 第66-72页 |
| 4.4.1 爆轰压力模拟 | 第66-68页 |
| 4.4.2 传爆极限厚度模拟 | 第68-72页 |
| 4.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 5 论文结论 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 附录 | 第78页 |