| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 纳米薄膜的制备方法简介 | 第14-18页 |
| 1.2.1 物理气相沉积法PVD | 第14-16页 |
| 1.2.2 化学气相沉积法CVD | 第16-18页 |
| 1.3 纳米薄膜的性能 | 第18-21页 |
| 1.3.1 纳米薄膜的力学性能 | 第18-19页 |
| 1.3.2 纳米薄膜的电学性能 | 第19-20页 |
| 1.3.3 纳米薄膜的磁学性能 | 第20页 |
| 1.3.4 纳米薄膜的光学性能 | 第20-21页 |
| 1.4 W-Ti薄膜的研究及应用现状 | 第21-22页 |
| 1.5 本论文选题依据、研究内容及技术路线 | 第22-25页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第22-23页 |
| 1.5.2 研究内容及目的 | 第23-25页 |
| 第二章 实验材料及其制备方法 | 第25-41页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第25-27页 |
| 2.1.1 磁控溅射镀膜原理 | 第25-26页 |
| 2.1.2 影响薄膜制备的因素 | 第26-27页 |
| 2.2 实验原料及实验设备简介 | 第27-30页 |
| 2.2.1 沉积系统简介 | 第27-28页 |
| 2.2.2 实验原材料 | 第28-29页 |
| 2.2.3 靶材与衬底的预处理方法 | 第29-30页 |
| 2.3 镀膜的实验过程 | 第30-33页 |
| 2.3.1 实验的工艺流程 | 第30-31页 |
| 2.3.2 技术路线 | 第31-33页 |
| 2.3.3 W、Ti、Cu三种金属的基本性质 | 第33页 |
| 2.4 样品分析测试方法 | 第33-39页 |
| 2.4.1 薄膜沉积率的测定 | 第33-34页 |
| 2.4.2 薄膜的扫描电镜(SEM)与能谱仪(EDS)测试 | 第34页 |
| 2.4.3 薄膜结构的X射线衍射(XRD)测试 | 第34-35页 |
| 2.4.4 薄膜表面形貌原子力显微镜(AFM)观察 | 第35页 |
| 2.4.5 薄膜结构的透射电镜(TEM)分析 | 第35-36页 |
| 2.4.6 薄膜的电学性能测试 | 第36页 |
| 2.4.7 薄膜力学性能测试 | 第36-37页 |
| 2.4.8 薄膜膜基结合力测试 | 第37页 |
| 2.4.9 薄膜摩擦学实验 | 第37-38页 |
| 2.4.10 薄膜耐蚀性测试 | 第38-39页 |
| 2.5 章末小结 | 第39-41页 |
| 第三章 W、Ti及W-Ti薄膜的正交试验与工艺优化 | 第41-53页 |
| 3.1 正交试验简介 | 第41页 |
| 3.2 W薄膜的正交试验与工艺优化 | 第41-45页 |
| 3.2.1 W薄膜的正交试验 | 第41-43页 |
| 3.2.2 W薄膜的正交试验结果分析 | 第43-45页 |
| 3.3 Ti薄膜的正交试验与工艺优化 | 第45-49页 |
| 3.3.1 Ti薄膜的正交试验 | 第45-46页 |
| 3.3.2 Ti薄膜的正交试验结果分析 | 第46-49页 |
| 3.4 W-Ti薄膜的正交试验与工艺优化 | 第49-52页 |
| 3.4.1 W-Ti薄膜的正交试验 | 第49-50页 |
| 3.4.2 W-Ti薄膜的正交试验结果分析 | 第50-52页 |
| 3.5 章末小结 | 第52-53页 |
| 第四章 W-Ti薄膜结构及性能研究 | 第53-77页 |
| 4.1 薄膜成分及沉积率与Ti靶面积分数的关系 | 第53-54页 |
| 4.2 薄膜结构的XRD分析 | 第54-56页 |
| 4.2.1 W-Ti薄膜的XRD分析 | 第55-56页 |
| 4.3 薄膜结构的扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析 | 第56-58页 |
| 4.3.1 薄膜的扫描电镜(SEM)分析 | 第56-57页 |
| 4.3.2 薄膜的透射电镜(TEM)分析 | 第57-58页 |
| 4.4 薄膜结构的原子力显微镜(AFM)分析 | 第58-60页 |
| 4.5 W-Ti薄膜电学性能测试结果分析 | 第60-62页 |
| 4.6 W-Ti薄膜硬度与弹性模量测试结果分析 | 第62-68页 |
| 4.6.1 纳米压痕实验原理 | 第62-64页 |
| 4.6.2 W-Ti薄膜的硬度 | 第64-67页 |
| 4.6.3 W-Ti薄膜的弹性模量 | 第67-68页 |
| 4.7 薄膜的膜基结合力分析 | 第68-70页 |
| 4.8 薄膜的摩擦磨损性能分析 | 第70-72页 |
| 4.9 薄膜的耐腐蚀性能分析 | 第72-75页 |
| 4.9.1 Tafel曲线简介 | 第72-73页 |
| 4.9.2 W-Ti薄膜在NaCl溶液中的耐蚀性研究 | 第73-74页 |
| 4.9.3 W-Ti薄膜在NaCl溶液中的腐蚀形貌分析 | 第74-75页 |
| 4.10 章末小结 | 第75-77页 |
| 第五章 W-Ti薄膜热稳定性研究 | 第77-87页 |
| 5.1 W-Ti薄膜的热退火的结构分析 | 第77-79页 |
| 5.1.1 薄膜退火后的XRD分析 | 第77-78页 |
| 5.1.2 薄膜退火后的SEM分析 | 第78-79页 |
| 5.2 W-Ti薄膜的扩散阻挡性能研究 | 第79-84页 |
| 5.2.1 Cu/W-Ti/Si夹层结构退火后的XRD分析 | 第80页 |
| 5.2.2 Cu/W-Ti/Si夹层结构退火后的SEM分析 | 第80-83页 |
| 5.2.3 Cu/W-Ti/Si夹层结构的失效机理讨论 | 第83-84页 |
| 5.3 章末小结 | 第84-87页 |
| 第六章 结论 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-95页 |
| 附录：攻读硕士学在位期间发表论文 | 第95页 |
