| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-36页 |
| 1.1 前言 | 第13页 |
| 1.2 光催化技术的基本原理及应用 | 第13-18页 |
| 1.2.1 光催化技术的基本原理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 光催化技术的应用 | 第14-18页 |
| 1.3 半导体光催化材料的改性 | 第18-26页 |
| 1.3.1 离子掺杂 | 第18-19页 |
| 1.3.2 贵金属沉积 | 第19-20页 |
| 1.3.3 半导体复合 | 第20-23页 |
| 1.3.4 晶面调控 | 第23-26页 |
| 1.4 新型光催化材料研究现状 | 第26-32页 |
| 1.4.1 铋系光催化材料 | 第26-30页 |
| 1.4.2 金属硫化物光催化材料 | 第30-32页 |
| 1.5 本论文的选题依据和研究内容 | 第32-36页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第32-34页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第34-36页 |
| 第二章 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂的可控制备及其可见光催化性能研究 | 第36-58页 |
| 2.1 引言 | 第36-37页 |
| 2.2 实验部分 | 第37-41页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第37-38页 |
| 2.2.2 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂的制备 | 第38-40页 |
| 2.2.3 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂的表征 | 第40页 |
| 2.2.4 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂的可见光催化降解实验 | 第40-41页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第41-57页 |
| 2.3.1 物相分析 | 第41-44页 |
| 2.3.2 形貌分析 | 第44-45页 |
| 2.3.3 UV-Vis DRS分析 | 第45-46页 |
| 2.3.4 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂的可见光催化性能 | 第46-51页 |
| 2.3.5 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂生长机理 | 第51-55页 |
| 2.3.6 Bi_(12)GeO_(20)光催化剂的可见光催化机理 | 第55-57页 |
| 2.4 小结 | 第57-58页 |
| 第三章 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化材料的制备及其可见光催化活性研究 | 第58-76页 |
| 3.1 引言 | 第58-59页 |
| 3.2 实验部分 | 第59-62页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第59-60页 |
| 3.2.2 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化剂的制备 | 第60-61页 |
| 3.2.3 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化剂的表征 | 第61页 |
| 3.2.4 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化剂的可见光催化实验 | 第61-62页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第62-74页 |
| 3.3.1 物相分析 | 第62-65页 |
| 3.3.2 形貌分析 | 第65-66页 |
| 3.3.3 FT-IR分析 | 第66-67页 |
| 3.3.4 UV-Vis DRS分析 | 第67-68页 |
| 3.3.5 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化剂的可见光催化氧化性能 | 第68-70页 |
| 3.3.6 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化剂的可见光催化还原性能 | 第70-71页 |
| 3.3.7 Bi_(12)GeO_(20)/g-C_3N_4复合光催化剂的可见光催化反应机理 | 第71-74页 |
| 3.4 小结 | 第74-76页 |
| 第四章 Bi_2SiO_5/AgI复合光催化剂的制备及其可见光催化性能的晶面依赖性研究 | 第76-99页 |
| 4.1 引言 | 第76-77页 |
| 4.2 实验部分 | 第77-80页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器 | 第77-78页 |
| 4.2.2 Bi_2SiO_5/AgI复合光催化剂的制备 | 第78-79页 |
| 4.2.3 Bi_2SiO_5/AgI复合光催化剂的表征 | 第79页 |
| 4.2.4 Bi_2SiO_5/AgI复合光催化剂的可见光催化降解实验 | 第79-80页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第80-97页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第80-83页 |
| 4.3.2 形貌分析 | 第83-86页 |
| 4.3.3 N2吸附-脱附等温线分析 | 第86-87页 |
| 4.3.4 UV-Vis DRS分析 | 第87页 |
| 4.3.5 Bi_2SiO_5/AgI复合光催化剂的可见光催化性能 | 第87-92页 |
| 4.3.6 Bi_2SiO_5/AgI复合光催化剂的可见光催化反应机理 | 第92-97页 |
| 4.4 小结 | 第97-99页 |
| 第五章 暴露{001}晶面SnS_2纳米片的制备及其可见光催化性能的晶面依赖性研究 | 第99-113页 |
| 5.1 引言 | 第99-100页 |
| 5.2 实验部分 | 第100-102页 |
| 5.2.1 实验试剂及仪器 | 第100-101页 |
| 5.2.2 光催化材料的制备 | 第101页 |
| 5.2.3 光催化材料的表征 | 第101页 |
| 5.2.4 光催化实验 | 第101-102页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第102-111页 |
| 5.3.1 物相分析 | 第102-105页 |
| 5.3.2 形貌分析 | 第105-106页 |
| 5.3.3 UV-Vis DRS分析 | 第106-107页 |
| 5.3.4 暴露{001}晶面的SnS_2纳米片的可见光催化氧化性能 | 第107-109页 |
| 5.3.5 暴露{001}晶面的SnS_2纳米片的可见光催化还原性能 | 第109-110页 |
| 5.3.6 暴露{001}晶面的SnS_2纳米片的可见光催化反应机理 | 第110-111页 |
| 5.4 小结 | 第111-113页 |
| 第六章 结论与展望 | 第113-116页 |
| 6.1 结论 | 第113-115页 |
| 6.2 创新点 | 第115页 |
| 6.3 展望 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-133页 |
| 致谢（一） | 第133-134页 |
| 致谢（二） | 第134-135页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第135页 |
