NiW合金电沉积早期成核和生长机理研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-24页 |
| 1.1 金属电沉积概述 | 第13-15页 |
| 1.1.1 金属电沉积的基本历程 | 第13-14页 |
| 1.1.2 金属电沉积过程的特点 | 第14-15页 |
| 1.2 金属电结晶概述 | 第15-18页 |
| 1.2.1 金属电结晶的基本历程 | 第15页 |
| 1.2.2 电结晶成核过程 | 第15-17页 |
| 1.2.3 电结晶机理研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3 镍钨合金电沉积与电结晶概述 | 第18-23页 |
| 1.3.1 镍、钨的性质 | 第18-19页 |
| 1.3.2 电沉积镍钨合金的意义 | 第19页 |
| 1.3.3 镍钨合金电沉积的研究现状 | 第19-22页 |
| 1.3.4 镍钨合金电结晶机理的研究现状 | 第22-23页 |
| 1.4 本课题选择的意义及内容 | 第23-24页 |
| 第2章 合金电结晶机理 | 第24-35页 |
| 2.1 前言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-27页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第25页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第25页 |
| 2.2.3 实验步骤 | 第25-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-34页 |
| 2.3.1 扫描电镜(SEM) | 第27-28页 |
| 2.3.2 循环伏安实验 | 第28-29页 |
| 2.3.3 线性电位扫描实验 | 第29-30页 |
| 2.3.4 计时电流实验 | 第30-32页 |
| 2.3.5 合金电结晶机理 | 第32-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 氨水对合金电结晶的影响 | 第35-45页 |
| 3.1 前言 | 第35-36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-38页 |
| 3.2.1 实验药品 | 第36页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第36页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第36-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-43页 |
| 3.3.1 循环伏安实验 | 第38-39页 |
| 3.3.2 线性电位扫描实验 | 第39页 |
| 3.3.3 计时电流实验 | 第39-42页 |
| 3.3.4 扫描电镜(SEM) | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 沉积基底对合金电结晶的影响 | 第45-54页 |
| 4.1 前言 | 第45-46页 |
| 4.2 实验部分 | 第46-48页 |
| 4.2.1 实验药品 | 第46页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第46页 |
| 4.2.3 实验步骤 | 第46-48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-53页 |
| 4.3.1 循环伏安实验 | 第48-49页 |
| 4.3.2 线性电位扫描实验 | 第49-50页 |
| 4.3.3 计时电流实验 | 第50-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 附录 (攻读学位期间所发表的学术论文目录) | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
