| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-30页 |
| 1.1 重金属污染特性及其处理方法 | 第13-17页 |
| 1.1.1 天然水体中重金属污染来源 | 第13页 |
| 1.1.2 重金属污染特性 | 第13-14页 |
| 1.1.3 重金属在水体中的迁移转化 | 第14页 |
| 1.1.4 重金属镉的污染 | 第14-16页 |
| 1.1.5 重金属处理方法 | 第16-17页 |
| 1.2 分子印迹技术概述 | 第17-22页 |
| 1.2.1 分子印迹技术原理 | 第18-19页 |
| 1.2.2 分子印迹原料 | 第19页 |
| 1.2.3 分子印迹聚合物的制备方法 | 第19-22页 |
| 1.3 离子印迹聚合物研究进展 | 第22-24页 |
| 1.3.1 离子印迹聚合物的制备方法 | 第22-23页 |
| 1.3.2 离子印迹聚合物的应用 | 第23-24页 |
| 1.4 复合污染 | 第24-28页 |
| 1.4.1 复合污染的定义及分类 | 第24-25页 |
| 1.4.2 腐殖酸简介 | 第25-27页 |
| 1.4.3 腐殖酸与金属离子相互作用特性 | 第27-28页 |
| 1.5 研究目的、意义及主要内容 | 第28-29页 |
| 1.5.1 研究目的与意义 | 第28页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第28-29页 |
| 1.6 技术路线图 | 第29-30页 |
| 第二章 实验材料与方法 | 第30-38页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第30-32页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第30页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第30-31页 |
| 2.1.3 储备液配制 | 第31-32页 |
| 2.2 巯基功能化离子印迹聚合物IIP-MPTS/SiO_2的制备 | 第32页 |
| 2.3 样品表征方法 | 第32-33页 |
| 2.4 实验方法 | 第33-34页 |
| 2.4.1 共存HA对IIP-MPTS/SiO_2吸附Cd~(2+)的影响 | 第33-34页 |
| 2.4.2 共存重金属离子对IIP-MPTS/SiO_2吸附Cd~(2+)的影响 | 第34页 |
| 2.4.3 共存低分子量有机酸对IIP-MPTS/SiO_2吸附Cd~(2+)的影响 | 第34页 |
| 2.5 数据处理 | 第34-37页 |
| 2.5.1 吸附容量 | 第34-35页 |
| 2.5.2 吸附动力学模型 | 第35页 |
| 2.5.3 吸附热力学方程 | 第35-36页 |
| 2.5.4 吸附等温线模型 | 第36-37页 |
| 2.5.5 吸附选择性 | 第37页 |
| 2.6 样品消解 | 第37-38页 |
| 第三章 巯基功能化Cd~(2+)印迹聚合物的制备及表征 | 第38-44页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 巯基功能化Cd~(2+)印迹聚合物IIP-MPTS/SiO_2的合成及表征 | 第38-43页 |
| 3.2.1 IIP-MPTS/SiO_2的合成 | 第38-39页 |
| 3.2.2 IIP-MPTS/SiO_2的表征 | 第39-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 腐殖酸对巯基功能化离子印迹聚合物吸附Cd~(2+)的增效作用 | 第44-58页 |
| 4.1 引言 | 第44-45页 |
| 4.2 HA与Cd~(2+)相互作用特性的光学表征 | 第45-46页 |
| 4.2.1 HA与不同浓度Cd~(2+)络合的紫外光谱分析 | 第45页 |
| 4.2.2 不同离子强度影响下HA与Cd~(2+)络合的紫外光谱分析 | 第45-46页 |
| 4.3 HA对Cd~(2+)在IIP-MPTS/SiO_2上的吸附的影响 | 第46-53页 |
| 4.3.1 IIP-MPTS/SiO_2对HA的吸附 | 第46-47页 |
| 4.3.2 溶液初始pH值的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.3 HA对吸附反应动力学的影响 | 第48-50页 |
| 4.3.4 HA对吸附反应热力学的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.5 HA对吸附反应等温线的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.6 HA初始浓度的影响 | 第53页 |
| 4.4 吸附机理 | 第53-56页 |
| 4.4.1 FT-IR分析 | 第53-54页 |
| 4.4.2 XPS分析 | 第54-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 共存金属离子对巯基功能化离子印迹聚合物吸附Cd~(2+)的影响 | 第58-69页 |
| 5.1 引言 | 第58-59页 |
| 5.2 共存金属离子对IIP-MPTS/SiO_2吸附Cd~(2+)的影响 | 第59-68页 |
| 5.2.1 pH值的影响 | 第59-64页 |
| 5.2.2 金属离子浓度的影响 | 第64-68页 |
| 5.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 共存低分子量有机酸对巯基功能化离子印迹聚合物吸附Cd~(2+)的影响 | 第69-76页 |
| 6.1 引言 | 第69页 |
| 6.2 IIP-MPTS/SiO_2对三种低分子量有机酸的吸附 | 第69-70页 |
| 6.3 低分子量有机酸对Cd~(2+)吸附的影响 | 第70-75页 |
| 6.3.1 有机酸对Cd~(2+)吸附等温线的影响 | 第70-72页 |
| 6.3.2 有机酸浓度对Cd~(2+)吸附的影响 | 第72-74页 |
| 6.3.3 有机酸影响Cd~(2+)吸附的机制 | 第74-75页 |
| 6.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 结论与展望 | 第76-78页 |
| 结论 | 第76-77页 |
| 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-91页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 附件 | 第94页 |
