| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第8-21页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 氧化锌基本性质 | 第8-9页 |
| 1.3 ZnO 纳米材料制备方法 | 第9-11页 |
| 1.3.1 脉冲激光沉积(PLD) | 第9页 |
| 1.3.2 化学气相沉积(CVD) | 第9-10页 |
| 1.3.3 金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第10页 |
| 1.3.4 磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第10页 |
| 1.3.5 水热法 | 第10-11页 |
| 1.3.6 分子束外延(MBE) | 第11页 |
| 1.4 ZnO 微纳米材料研究现状 | 第11-19页 |
| 1.4.1 本征 ZnO 研究现状 | 第11-17页 |
| 1.4.2 掺杂 ZnO 的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.4.3 掺杂 ZnO 存在的问题 | 第19页 |
| 1.5 选题意义 | 第19-20页 |
| 1.6 主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 ZnO 的制备、表征方法 | 第21-28页 |
| 2.1 实验设备与材料 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第21-22页 |
| 2.1.2 实验材料 | 第22页 |
| 2.2 ZnO 的制备 | 第22-24页 |
| 2.2.1 CVD 原理及特点 | 第22-23页 |
| 2.2.2 工艺流程 | 第23-24页 |
| 2.3 表征方法 | 第24-28页 |
| 2.3.1 X 射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.3.2 场发射扫描电镜(SEM)及能谱(EDS) | 第25页 |
| 2.3.3 光致发光光谱(PL) | 第25-26页 |
| 2.3.4 UV 可见分光光度计 | 第26页 |
| 2.3.5 X 射线光电子能谱(XPS) | 第26-28页 |
| 第3章 未掺杂 ZnO 纳米结构的制备及表征 | 第28-41页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 制备工艺 | 第28页 |
| 3.2.1 基片的清洗 | 第28页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第28页 |
| 3.3 不同衬底对 ZnO 结构和性能的影响 | 第28-37页 |
| 3.3.1 ITO 衬底上 ZnO 纳米线的制备及表征 | 第28-30页 |
| 3.3.2 ZnO 纳米线的光学性能表征 | 第30-32页 |
| 3.3.3 石英衬底上 ZnO 微纳米材料的制备及表征 | 第32-37页 |
| 3.4 不同催化剂下 ZnO 的制备及表征 | 第37-40页 |
| 3.4.1 Ni 催化下 ZnO 的制备及表征 | 第37-38页 |
| 3.4.2 Ag 催化下 ZnO 的制备及表征 | 第38-39页 |
| 3.4.3 Ag 与 Ni 催化下 ZnO 的生长机理 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 Cu 掺杂下 ZnO 纳米带的制备及表征 | 第41-50页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 Cu 掺杂 ZnO 纳米带的制备及表征 | 第41-45页 |
| 4.2.1 Cu 掺杂 ZnO 纳米带的制备及结构表征 | 第41-43页 |
| 4.2.2 Cu 掺杂 ZnO 纳米带形成机理 | 第43-45页 |
| 4.3 Cu 掺杂 ZnO 纳米带的光致发光性能 | 第45-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 Mn 掺杂 ZnO 的研究 | 第50-59页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 Mn 掺杂 ZnO 的制备 | 第50页 |
| 5.2.1 制备过程 | 第50页 |
| 5.3 Mn 掺杂 ZnO 的结构表征及成分、生长机理分析 | 第50-57页 |
| 5.3.1 ZnO: Mn 的结构表征 | 第50-52页 |
| 5.3.2 Mn 掺杂 ZnO 生长机理分析 | 第52-54页 |
| 5.3.3 Mn 掺杂 ZnO 的成分分析 | 第54-57页 |
| 5.4 Mn 掺杂 ZnO 的光致发光性能研究 | 第57-58页 |
| 5.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
